[發(fā)明專利]基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010410734.2
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111693496A
• 公開（公告）日: 2020-09-22
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 范靜濤;周逸亮;吳嘉敏;戴瓊海
• 申請（專利權(quán)）人: 清華大學(xué)
• 主分類號: G01N21/64
• 分類號: G01N21/64;G06T3/40
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11201
• 代理人: 石茵汀

1.一種基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法，其特征在于，包括以下步驟：

在雙光子顯微成像的過程中，對像面共軛面小孔處進行0/1光強調(diào)制；

通過飽和結(jié)構(gòu)光照明顯微術(shù)逐點掃描成像過程中照射在樣本上的光斑；

利用探測器采集光斑圖案，并對所述光斑圖案進行解卷積處理，獲得超高數(shù)值孔徑衍射極限的超分辨圖像。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述飽和結(jié)構(gòu)光照明顯微術(shù)為結(jié)構(gòu)光照明顯微系統(tǒng)與雙光子光場顯微系統(tǒng)相結(jié)合的真正超分辨技術(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法，其特征在于，所述飽和結(jié)構(gòu)光照明顯微術(shù)利用雙光子的光強平方關(guān)系和熒光分子的光強飽和性質(zhì)，通過提高引入對照射光強，將更高頻的樣本信息搬移至物鏡的數(shù)值孔徑內(nèi)。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法，其特征在于，采用所述飽和結(jié)構(gòu)光照明顯微術(shù)中的雙光子光場顯微系統(tǒng)，樣本激發(fā)光傳播至所述探測器不再是一個卷積過程，不存在頻譜的搬移現(xiàn)象。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法，其特征在于，獲得所述超高數(shù)值孔徑衍射極限的超分辨圖像的過程中，只在光場重建時引入計算手段。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于結(jié)構(gòu)光照明的雙光子光場超分辨顯微成像方法，其特征在于，獲得所述超高數(shù)值孔徑衍射極限的超分辨圖像的過程包括以下步驟：

對所述光斑圖案進行解卷積處理，獲取低數(shù)值孔徑下的雙光子光場信息；

基于點擴散函數(shù)，通過所述雙光子光場信息重建所述超高數(shù)值孔徑衍射極限的超分辨圖像。