[發(fā)明專利]一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010410194.8
• 申請日: 2020-05-15
• 公開（公告）號: CN111599741A
• 公開（公告）日: 2020-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 徐俊
• 申請（專利權(quán)）人: 杭州易正科技有限公司
• 主分類號: H01L21/683
• 分類號: H01L21/683
• 代理公司: 北京眾合誠成知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11246
• 代理人: 曹立成

1.一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，包括托盤(1)，托盤(1)的下端面上成型有主軸(11)，其特征在于：托盤(1)的上端面上成型有若干組裝載槽(a)，裝載槽(a)繞托盤(1)的中心軸線呈環(huán)形均勻分布；所述的裝載槽(a)由一個圓形的內(nèi)凹槽(12)和兩個圓形的外凹槽(13)組成，內(nèi)凹槽(12)和外凹槽(13)分布在等腰三角的三角形，內(nèi)凹槽(12)位于托盤(1)的內(nèi)圈并繞托盤(1)的中心軸線呈環(huán)形均勻分布，所述的外凹槽(13)位于托盤(1)的外圈并繞托盤(1)的中心軸線呈環(huán)形均勻分布；所述的內(nèi)凹槽(12)或外凹槽(13)的底面上均插接固定有兩個密封墊圈(2)，密封墊圈(2)之間的內(nèi)凹槽(12)或外凹槽(13)底面上成型有若干負壓孔(14)；所述密封墊圈(2)內(nèi)側(cè)的內(nèi)凹槽(12)或外凹槽(13)底面上成型有冷卻進孔(15)和冷卻出孔(16)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述托盤(1)上內(nèi)凹槽(12)或外凹槽(13)的中心均插接固定有墊塊(3)，墊塊(3)的上端面和密封墊圈(2)的上端面相齊平，密封墊圈(2)的上端面低于托盤(1)的上端面。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述負壓孔(14)正下方的托盤(1)內(nèi)成型有若干與負壓孔(14)相連通的環(huán)形氣道(17)，托盤(1)內(nèi)成型有連通相鄰氣道的弧形氣道(18)，托盤(1)的中心成型有吸氣孔(19)，托盤(1)內(nèi)成型有連通吸氣孔(19)和弧形氣道(18)或托盤(1)內(nèi)、外圈弧形氣道(18)的通氣槽(110)。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述冷卻進孔(15)正下方的托盤(1)內(nèi)成型有若干與冷卻進孔(15)相連通并呈C型的外槽道(113)，冷卻出孔(16)正下方的托盤(1)內(nèi)成型有若干與冷卻進孔(15)相連通并呈C型的內(nèi)槽道(114)，吸氣孔(19)四周的托盤(1)內(nèi)成型有兩道圓弧形的進氣槽(111)和出氣槽(112)；所述的托盤(1)內(nèi)成型有連通進氣槽(111)與外槽道(113)或托盤(1)內(nèi)、外圈外槽道(113)的進氣通道(115)，托盤(1)內(nèi)成型有連通出氣槽(112)與內(nèi)槽道(114)或托盤(1)內(nèi)、外圈內(nèi)槽道(114)的出氣通道(116)。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述的進氣通道(115)分布在內(nèi)槽道(114)的槽口內(nèi)，出氣通道(116)分布在外槽道(113)的槽口內(nèi)。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述托盤(1)內(nèi)的外槽道(113)或內(nèi)槽道(114)位于環(huán)形氣道(17)的下方。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種半導(dǎo)體刻蝕機上的托盤結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述托盤(1)上進氣槽(111)或出氣槽(112)的圓弧圓心位于吸氣孔(19)的中心軸線上。