[發(fā)明專利]一種液晶顯示模組、制作方法及顯示面板

在審

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• 申請日: 2020-05-12
• 公開（公告）號: CN111458916A
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 侯靖威;徐敬義;唐烏力吉白爾;張文龍;姜瑞澤;任艷偉;孫研豪
• 申請（專利權(quán)）人: 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/13
• 代理公司: 北京正理專利代理有限公司 11257
• 代理人: 付生輝

本發(fā)明公開一種液晶顯示模組，包括陣列基板和與其對盒的彩膜基板，其中，所述陣列基板包括形成在圍繞陣列基板顯示區(qū)的非顯示區(qū)中的源漏信號線；覆蓋所述源漏信號線的平坦化層；形成在所述平坦化層中的凹槽，所述凹槽相較于所述源漏信號線遠離所述顯示區(qū)；形成在所述凹槽中的金屬焊盤；所述彩膜基板包括自所述彩膜基板遠離所述陣列基板的表面延伸到所述金屬焊盤并與其電連接的銀漿體；所述陣列基板還包括形成在所述平坦化層中的開槽，所述開槽設(shè)置在所述源漏信號線與所述凹槽之間，所述開槽沿遠離所述顯示區(qū)的方向整體呈逐漸下降的斜坡狀；所述開槽從所述平坦化層的表面延伸到其中，但并不貫穿所述平坦化層。本發(fā)明提高了產(chǎn)品的良率。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域。更具體地，涉及一種液晶顯示模組、制作方法及顯示面板。

背景技術(shù)

圖1為現(xiàn)有技術(shù)中的液晶顯示模組的截面圖，圖2為液晶顯示模組中的陣列基板的截面圖，結(jié)合圖1以及圖2所示，現(xiàn)有技術(shù)中的液晶顯示模組包括有彩膜基板以及陣列基板，其中，陣列基板包括：柵極絕緣層1、層間介電層2、形成在圍繞陣列基板顯示區(qū)的非顯示區(qū)中的源漏信號線3，覆蓋源漏信號線3的平坦化層4、形成在平坦化層上的鈍化層5、凹槽6以及形成在凹槽6中的金屬焊盤(包括：依次形成在凹槽6內(nèi)的第一金屬層7、第二金屬層8以及第三金屬層9)，在圖1中，凹槽6相較于源漏信號線3來說遠離顯示區(qū)，而彩膜基板則包括：襯底基板15、形成在所述襯底基板15上的黑色矩陣層14、保護層13、封裝層12以及自彩膜基板遠離陣列基板的表面延伸到金屬焊盤并與金屬焊盤連接的銀漿體10。

在制作上述圖1所示結(jié)構(gòu)的過程中，通常會在彩膜基板或陣列基板的表面上涂覆PI液來形成相應的液晶取向膜，而在噴涂PI液的過程中，由于PI液會在陣列基板的表面上進行自然的擴散，為了防止PI液流動至金屬焊盤上，從而影響銀漿體10釋放ESD(靜電)能力，因此，往往會在陣列基板的平坦化層5中形成相應的開槽11，以引導PI液在流動的過程中流動至開槽11內(nèi)，但是在對液晶顯示模組進行信賴性測試的過程中，由于信賴性測試過程的高溫高濕條件(例如：8585(85℃、85％Humidity)、PCT(2atmos100％Humidity120℃))，往往會造成凹槽的內(nèi)壁發(fā)生脫落的現(xiàn)象以形成脫落位置，從而水汽會經(jīng)由脫落位置進入來對源漏信號線3進行相應的腐蝕，進一步的引發(fā)異常顯示的問題。

發(fā)明內(nèi)容

為了解決背景技術(shù)中所提出的技術(shù)問題，本發(fā)明第一方面提出了一種液晶顯示模組，包括陣列基板和與其對盒的彩膜基板，其中

所述陣列基板包括

形成在圍繞陣列基板顯示區(qū)的非顯示區(qū)中的源漏信號線；

覆蓋所述源漏信號線的平坦化層；

形成在所述平坦化層中的凹槽，所述凹槽相較于所述源漏信號線遠離所述顯示區(qū)；

形成在所述凹槽中的金屬焊盤；

所述彩膜基板包括

自所述彩膜基板遠離所述陣列基板的表面延伸到所述金屬焊盤并與其電連接的銀漿體；

所述陣列基板還包括形成在所述平坦化層中的開槽，所述開槽設(shè)置在所述源漏信號線與所述凹槽之間，其中，

所述開槽沿遠離所述顯示區(qū)的方向整體呈逐漸下降的斜坡狀；

所述開槽從所述平坦化層的表面延伸到其中，但并不貫穿所述平坦化層。

可選地，

所述彩膜基板還包括形成在所述彩膜基板靠近所述陣列基板表面的支撐柱，所述支撐柱在陣列基板與彩膜基板對盒時嵌入在所述開槽中。

可選地，

所述開槽為臺階狀。

可選地，