[發(fā)明專利]一種液晶顯示模組、制作方法及顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010399532.2 | 申請日: | 2020-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN111458916A | 公開(公告)日: | 2020-07-28 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 侯靖威;徐敬義;唐烏力吉白爾;張文龍;姜瑞澤;任艷偉;孫研豪 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;鄂爾多斯市源盛光電有限責任公司 |
| 主分類號: | G02F1/1333 | 分類號: | G02F1/1333;G02F1/1339;G02F1/1362;G02F1/1343;G02F1/13 |
| 代理公司: | 北京正理專利代理有限公司 11257 | 代理人: | 付生輝 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 液晶顯示 模組 制作方法 顯示 面板 | ||
1.一種液晶顯示模組,包括陣列基板和與其對盒的彩膜基板,其中
所述陣列基板包括
形成在圍繞陣列基板顯示區(qū)的非顯示區(qū)中的源漏信號線;
覆蓋所述源漏信號線的平坦化層;
形成在所述平坦化層中的凹槽,所述凹槽相較于所述源漏信號線遠離所述顯示區(qū);
形成在所述凹槽中的金屬焊盤;所述彩膜基板包括
自所述彩膜基板遠離所述陣列基板的表面延伸到所述金屬焊盤并與其電連接的銀漿體;
其特征在于,
所述陣列基板還包括形成在所述平坦化層中的開槽,所述開槽設(shè)置在所述源漏信號線與所述凹槽之間,其中,
所述開槽沿遠離所述顯示區(qū)的方向整體呈逐漸下降的斜坡狀;
所述開槽從所述平坦化層的表面延伸到其中,但并不貫穿所述平坦化層。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示模組,其特征在于,
所述彩膜基板還包括形成在所述彩膜基板靠近所述陣列基板表面的支撐柱,所述支撐柱在陣列基板與彩膜基板對盒時嵌入在所述開槽中。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示模組,其特征自于,
所述開槽為臺階狀。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的液晶顯示模組,其特征在于,
所述支撐柱形成在所述彩膜基板靠近所述陣列基板表面上的第一部和形成在所述第一部遠離所述彩膜基板一側(cè)的第二部,其中,在所述陣列基板與所述彩膜基板對盒時,所述第一部在所述陣列基板上的正投影覆蓋所述開槽在所述陣列基板上的正投影,所述第二部嵌入所述開槽中。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的液晶顯示模組,其特征在于,
所述第二部的形狀被設(shè)計為與所述開槽嵌合。
6.根據(jù)權(quán)利要求1-5中任一項所述的液晶顯示模組,其特征在于,所述陣列基板在非顯示區(qū)還包括
朝向所述彩膜基板凸起的隔斷部,設(shè)置在所述源漏信號線和所述開槽之間,用于阻擋水汽進入所述源漏信號線。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的液晶顯示模組,其特征在于,
所述陣列基板的顯示區(qū)包括
有源區(qū)、柵極和源漏極;
所述隔斷部包括與所述有源區(qū)同層設(shè)置的偽有源區(qū)層、形成在所述偽有源區(qū)上與所述柵極同層設(shè)置的偽柵極、以及形成在所述偽柵極上與所述源漏極同層設(shè)置的偽源漏極。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示模組,其特征在于,
所述陣列基板的顯示區(qū)還包括
遮光區(qū),所述有源區(qū)設(shè)置在所述遮光區(qū)上;
所述隔斷部還包括與所述遮光區(qū)同層設(shè)置的偽遮光區(qū),其中所述偽有源區(qū)設(shè)置在所述偽遮光區(qū)上。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的液晶顯示模組,其特征在于,所述陣列基板還包括
形成在顯示區(qū)中平坦化層上的公共電極;
形成在所述公共電極上的鈍化層;
形成在所述鈍化層上的驅(qū)動電極;
設(shè)置在所述凹槽中的第一金屬層,與所述源漏信號線同層設(shè)置;
形成在所述第一金屬層上的第二金屬層,與所述公共電極同層設(shè)置;
形成在所述第二金屬層上的第三金屬層,與所述驅(qū)動電極同層設(shè)置;
其中,所述金屬焊盤包括所述第一至第三金屬層,并且所述銀漿體與所述第三金屬層電連接。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





