[發明專利]一種提高蝕刻產品質量的蝕刻液在審

申請號：	202010378511.2	申請日：	2020-05-07
公開（公告）號：	CN111411361A	公開（公告）日：	2020-07-14
發明（設計）人：	尹國欽;任忠平	申請（專利權）人：	寧波福至新材料有限公司
主分類號：	C23F1/28	分類號：	C23F1/28;C23F1/02
代理公司：	上海泰能知識產權代理事務所 31233	代理人：	魏峯
地址：	315800 浙江省寧波市北***	國省代碼：	浙江;33
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種提高蝕刻產品質量
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【說明書】：

本發明涉及一種提高蝕刻產品質量的蝕刻液，由三氯化鐵、氯化銅、硫化氫和水組成。本發明可明顯降低三氯化鐵蝕刻劑的蝕刻溫度，加快整體蝕刻速度，進而大大提高產品的蝕刻質量，側蝕質量可達到0.01mm以下，具有良好的應用前景。

技術領域

本發明屬于金屬蝕刻領域，特別涉及一種提高蝕刻產品質量的蝕刻液。

背景技術

金屬蝕刻也稱光化學金屬蝕刻，通常通過曝光制版、顯影后，將要金屬蝕刻區域的保護膜去除，在金屬蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成需要成型的效果。該工藝目前已用于航空、機械、化學工業中電子薄片零件精密金屬蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，金屬蝕刻更是不可或缺的技術。

化學蝕刻就是將需要蝕刻的金屬制件浸泡在由各種化學成分組成的蝕刻溶液中，經過一定時間的反應后，需要蝕刻部分的金屬慢慢溶解，最終達到所需要的蝕刻深度，使金屬制件表面形成需要成型的效果。化學蝕刻的過程實際上是金屬在化學溶液中的自溶解，也就是腐蝕過程。通過大量的工藝試驗和生產實踐，總結形成了蝕刻液成份、濃度、溫度和工件傳輸速度的多參數動態綜合控制技術，這些參數是動態變化的，其設定與調整與產品材質和厚薄、產品大小和形式、感光膠膜材質和厚薄有關，與一次配置的蝕刻液蝕刻的產品總量有關，對蝕刻質量、效率和側蝕量有直接影響。

常用的化學蝕刻劑有氫氟酸、過氧化氫和三氯化鐵蝕刻液等。蝕刻金屬通常最常見的蝕刻質量問題是側蝕質量，側蝕質量往往達不到0.01mm以下，尤其厚度大的蝕刻片，側面呈梯形。這同蝕刻液溫度和蝕刻速度有關，蝕刻液溫度越高、蝕刻速度越慢，蝕刻質量越差，尤其三氯化鐵蝕刻液，蝕刻時間越長，放出熱量越大，造成側蝕質量越差。因此，如何解決三氯化鐵蝕刻液溫度高和如何解決蝕刻速度慢而造成蝕刻產品質量差，成為化學蝕刻一大技術難題。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是提供一種提高蝕刻產品質量的蝕刻液，該蝕刻液可有效解決常規的蝕刻液側蝕質量差的技術缺陷。

本發明提供了一種提高蝕刻產品質量的蝕刻液，由三氯化鐵、氯化銅、硫化氫和水組成。

所述三氯化鐵濃度為30％～35％。

所述氯化銅濃度為18％～25％。

所述硫化氫輸入到蝕刻液中的壓力為3-8bar。

所述硫化氫輸入量為0.5--0.8m³/h。

本發明中三氯化鐵蝕刻液的反應方程式如下：

Fe+2FeCl₃＝3FeCl₂——(1)

標準自由能△F⁰₍₁₎＝-53100-8.9_T

Cr+2FeCl₃＝CrCl₂+2FeCl₂——(2)

標準自由能△F⁰₍₂₎＝-68600-9.6_T