[發(fā)明專利]掩模板夾持裝置以及張網(wǎng)設(shè)備

有效

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• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN113579604B
• 公開（公告）日: 2022-10-11
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 孫啟峰;張洪博;耿鵬飛;張瑞平
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備（集團(tuán)）股份有限公司
• 主分類號: B23K37/04
• 分類號: B23K37/04
• 代理公司: 上海思捷知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31295
• 代理人: 王宏婧

本發(fā)明涉及一種掩模板夾持裝置以及包括所述掩模板夾持裝置的張網(wǎng)設(shè)備。所述掩模板夾持裝置在夾持塊上設(shè)置有至少兩個溝槽，所述溝槽的深度方向和長度方向均與所述掩模板的厚度方向垂直，所述溝槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交疊。溝槽的設(shè)置使得夾持塊具有一定的柔性，柔性夾持塊在夾持過程中可以根據(jù)應(yīng)力情況進(jìn)行自適應(yīng)調(diào)整，使作用于掩模板上的夾持力更加均衡，減小所夾持的掩模板的變形量，在夾持精密掩模板時，可以提高像素套合精度。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及夾持裝置領(lǐng)域，尤其涉及一種掩模板夾持裝置以及一種張網(wǎng)設(shè)備。

背景技術(shù)

真空鍍膜(vacuum evaporation)設(shè)備是一種常用的成膜設(shè)備，具體是將待沉積材料和待沉積基板置于真空室中，加熱待沉積材料使之蒸發(fā)或升華，并在待沉積基板上成膜的工藝。為了使待沉積材料沉積于基板上的某些特定區(qū)域，例如有機(jī)電致發(fā)光器件(OLED)面板的像素區(qū)，通常在真空鍍膜設(shè)備的真空室安裝蒸鍍用的金屬精密掩模板(FMM)，這種掩模板上形成有眾多像素孔，受熱蒸發(fā)的待沉積材料通過掩模板上的像素孔沉積在基板上對應(yīng)的像素區(qū)。

在將厚度薄(通常小于1mm)、圖形復(fù)雜的精密掩模板安裝于真空鍍膜設(shè)備進(jìn)行使用之前，通常需要對其將進(jìn)行穩(wěn)定的夾持并進(jìn)行張網(wǎng)焊接，將精密掩模板固定在掩模板框架(mask frame)上。但是，發(fā)明人發(fā)現(xiàn)，利用現(xiàn)有的夾持裝置在夾持精密掩模板的過程中，精密掩模板在夾持過程中容易發(fā)生平移、旋轉(zhuǎn)，甚至掩模板表面會出現(xiàn)褶皺(或稱波形)，這會導(dǎo)致在張網(wǎng)焊接時精密掩模板上的像素孔的大小和位置出現(xiàn)偏移，從而降低精密掩模板的像素套合精度及張網(wǎng)質(zhì)量，在應(yīng)用于OLED面板的蒸鍍工藝時，由于精密掩模板的像素套合精度下降，對所制作的OLED面板的質(zhì)量造成了不良影響。

發(fā)明內(nèi)容

為了降低在夾持過程中掩模板發(fā)生平移、旋轉(zhuǎn)、波形等變形情況的發(fā)生，本發(fā)明提供了一種掩模板夾持裝置。另外還提供了一種包括所述掩模板夾持裝置的張網(wǎng)設(shè)備。

本發(fā)明提供的掩模板夾持裝置，包括包括用來接觸掩模板以夾持所述掩模板的夾持塊，所述夾持塊上設(shè)置有至少兩個溝槽，所述溝槽的深度方向和長度方向均與所述掩模板的厚度方向垂直，所述溝槽沿所述掩模板的厚度方向排列且在所述深度方向相互交疊。

可選的，所述溝槽沿其長度方向貫穿相應(yīng)的所述夾持塊。

可選的，同一夾持塊上的相鄰兩個所述溝槽的深度方向相反。

可選的，所述溝槽底部的垂直于所述長度方向的剖面為圓形或橢圓形。

可選的，所述夾持塊包括用來分別接觸所述掩模板兩個表面且相對設(shè)置的上夾持塊和下夾持塊，所述上夾持塊在一驅(qū)動機(jī)構(gòu)的控制下能夠沿所述掩模板的厚度方向靠近或遠(yuǎn)離所述下夾持塊，所述上夾持塊和所述下夾持塊中的至少一個的端部各設(shè)置有兩個所述溝槽。

可選的，在所述上夾持塊和所述下夾持塊均設(shè)置有所述溝槽時，位于所述上夾持塊最下端的溝槽和位于所述下夾持塊最上端的溝槽的深度方向相反。

可選的，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)包括電機(jī)、主動塊和壓桿，所述壓桿通過導(dǎo)向軸承連接所述主動塊，所述上夾持塊設(shè)置于所述壓桿的一端，所述主動塊具有一斜孔，所述導(dǎo)向軸承可滑動地嵌設(shè)于所述斜孔內(nèi)，所述主動塊在所述電機(jī)的驅(qū)動下移動并帶動所述壓桿和所述上夾持塊沿所述掩模板的厚度方向移動。

可選的，所述溝槽的深度方向與所述主動塊的移動方向相同，或者，所述溝槽的深度方向與所述主動塊和所述上夾持塊的移動方向均垂直。

可選的，所述驅(qū)動機(jī)構(gòu)還包括設(shè)置于所述壓桿另一端的壓桿軸以及軸套，所述壓桿軸的軸向與所述上夾持塊的移動方向相同，所述壓桿軸可活動地插入所述軸套。

可選的，所述壓桿軸上套設(shè)有墊圈，當(dāng)所述壓桿軸下降到最底端時，所述墊圈塞于所述壓桿和所述軸套之間的間隙。