[發明專利]光罩、觸控模組及其制備方法、電子設備

在審

• 申請號: 202010366921.5
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN111562717A
• 公開（公告）日: 2020-08-21
• 發明（設計）人: 田舒韻;張禮冠;許建勇
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲顯示科技有限公司
• 主分類號: G03F1/40
• 分類號: G03F1/40;G06F3/041
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 唐清凱

1.一種光罩，其特征在于，包括阻光區、透光區以及部分透光區，其中：

所述部分透光區突出于所述阻光區邊緣，以允許部分紫外線透過，所述部分透光區包括第一部分透光區以及第二部分透光區，所述第一部分透光區位于所述阻光區的邊緣，且所述第一部分透光區的紫外線透過率處處相等，所述第二部分透光區位于所述第一部分透光區遠離所述阻光區的一側，且具有漸變的紫外線透過率。

2.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，所述部分透光區的紫外線透過率為10％-90％。

3.根據權利要求2所述的光罩，其特征在于，所述第一部分透光區的紫外線透過率范圍為10％-20％。

4.根據權利要求3所述的光罩，其特征在于，所述第二部分透光區的最大紫外線透過率相比所述第一部分透光區的紫外線透過率高60％-80％。

5.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，所述第二部分透光區的紫外線透過率自所述第一部分透光區的邊緣向外逐漸變大。

6.根據權利要求1所述的光罩，其特征在于，沿自所述阻光區邊緣向外的方向，所述部分透光區的寬度為1um-100um。

7.根據權利要求6所述的光罩，其特征在于，沿自所述阻光區邊緣向外的方向，所述第一部分透光區的寬度和所述第二部分透光區的寬度相同。

8.一種觸控模組的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

S501,在基底上依次沉積ITO薄膜以及干膜；

S502,利用如權利要求1-7任一項所述的光罩對所述干膜進行曝光、顯影；

S503,對未被干膜保護的ITO薄膜進行蝕刻；

S501,剝除干膜。

9.一種如權利要求1-7任一項所述的光罩曝光后制備的觸控模組，其特征在于，包括：基底以及設置在所述基底上的多個ITO線路，所述ITO線路具有第一表面、第二表面、第三表面以及第四表面，其中：

所述第一表面和所述第二表面相對設置且平行于所述基底，所述第一表面位于所述第二表面遠離所述基底的一側，且沿垂直于所述基底的方向所述第一表面在所述第二表面上的投影完全落入所述第二表面；

所述第三表面和所述第四表面分別連接所述第一表面和所述第二表面，且所述第三表面以及所述第四表面沿垂直于所述基底的方向在所述第一表面上的投影除與所述第一表面的相交位置外均完全落入所述第一表面的外側。

10.根據權利要求9所述的觸控模組，其特征在于，所述第三表面和所述第四表面關于所述第一表面對稱，且包括斜面和垂直面，所述垂直面與所述第二表面相垂直，所述斜面連接所述垂直面和所述第一表面，且所述斜面與所述第一表面之間呈鈍角。

11.根據權利要求9所述的觸控模組，其特征在于，沿垂直于所述基底的方向，所述ITO線路的截面形狀為梯形。

12.一種電子設備，其特征在于，包括如權利要求9-11任一項所述的觸控模組。