[發明專利]觸控模組及其制備方法、電子設備

在審

• 申請號: 202010364731.X
• 申請日: 2020-04-30
• 公開（公告）號: CN111708449A
• 公開（公告）日: 2020-09-25
• 發明（設計）人: 田舒韻;張禮冠
• 申請（專利權）人: 南昌歐菲顯示科技有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 劉寧

1.一種觸控模組的制造方法，其特征在于，包括以下步驟：

S301，在基底上依次沉積ITO薄膜以及干膜；

S302，利用光罩對所述干膜進行曝光、顯影，其中，所述光罩包括阻光區及透光區，所述透光區自所述阻光區的邊緣向外采用漸變光強曝光對應的所述干膜；

S303，對未被干膜保護的ITO薄膜進行蝕刻；

S304，剝除干膜。

2.根據權利要求1所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，所述透光區包括第一透光區、第二透光區以及第三透光區，其中：

所述第一透光區連接設置于所述阻光區邊緣，所述第一透光區的光強處處相等；

所述第二透過光區位于所述第一透光區遠離所述阻光區的一側，且所述第二透光區采用漸變光強曝光；

所述第三透光區位于所述第二透光區遠離所述第一透光區的一側，所述第三透光區對應的光強大于所述第二透光區的最大光強。

3.根據權利要求2所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，所述第二透光區的光強為所述第三透光區的光強的10％-90％。

4.根據權利要求2所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，所述第一透光區的光強為所述第三透光區的光強的10％-20％。

5.根據權利要求4所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，所述第二透光區的最大光強相比所述第一透光區的光強高60％-80％。

6.根據權利要求2所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，所述第二透光區的光強自所述第一透光區的邊緣向外逐漸變大。

7.根據權利要求2所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，沿自所述阻光區邊緣向外的方向，所述第一透光區和所述第二透光區的寬度之和的范圍為1um-100um。

8.根據權利要求7所述的觸控模組的制造方法，其特征在于，沿自所述阻光區邊緣向外的方向，所述第一透光區的寬度和所述第二透光區的寬度相同。

9.一種利用如權利要求1-8任一項所述的觸控模組的制造方法制備的觸控模組，其特征在于，包括：基底以及設置在所述基底上的多個ITO線路，所述ITO線路具有第一表面、第二表面、第三表面以及第四表面，其中：

所述第一表面和所述第二表面相對設置且平行于所述基底，所述第一表面位于所述第二表面遠離所述基底的一側，且沿垂直于所述基底的方向所述第一表面在所述第二表面上的投影完全落入所述第二表面；

所述第三表面和所述第四表面分別連接所述第一表面和所述第二表面，且所述第三表面以及所述第四表面沿垂直于所述基底的方向在所述第一表面上的投影除與所述第一表面的相交位置外均完全落入所述第一表面的外側。

10.根據權利要求9所述的觸控模組，其特征在于，所述第三表面和所述第四表面關于所述第一表面對稱，且包括斜面和垂直面，所述垂直面與所述第二表面相垂直，所述斜面連接所述垂直面和所述第一表面，且所述斜面與所述第一表面之間呈鈍角。

11.根據權利要求9所述的觸控模組，其特征在于，沿垂直于所述基底的方向，所述ITO線路的截面形狀為梯形。

12.一種電子設備，其特征在于，包括如權利要求9-11任一項所述的觸控模組。