[發明專利]掩膜版及其制作方法

有效

• 申請號: 202010350268.3
• 申請日: 2020-04-28
• 公開（公告）號: CN111509016B
• 公開（公告）日: 2023-03-24
• 發明（設計）人: 林治明
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電半導體顯示技術有限公司
• 主分類號: H10K59/35
• 分類號: H10K59/35;H10K71/00;H10K71/16;C23C14/04
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 張曉薇

1.一種掩膜版，其特征在于，包括：

外框，所述外框包括中空區；

位于所述中空區內的遮光構件，包括多個沿第一方向并列設置的第一遮光條、及多個沿第二方向并列設置的第二遮光條，多個所述第一遮光條及多個所述第二遮光條將所述中空區劃分為多個第一區；

任一所述第一遮光條包括多個重復設置的第一子遮光條，一所述第一子遮光條與一所述第一區對應，所述第一子遮光條位于在所述第二方向上的相鄰兩個所述第一區之間；

其中，所述第一子遮光條包括覆蓋部分所述第一區的第一突出部；

所述掩膜版還包括多個第一支撐條和多個第二支撐條，所述第一支撐條與所述第二支撐條構成支撐網，所述支撐網用于支撐所述遮光構件；

所述支撐網包括位于所述第一支撐條及所述第二支撐條內的連續的中空腔體；

所述中空腔體內填充有冷卻流體；

所述支撐網還包括第一進口和第一出口；

所述冷卻流體通過所述第一進口流入所述中空腔體，并通過所述第一出口流出所述中空腔體，對所述支撐網進行降溫處理。

2.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一子遮光條還包括覆蓋部分所述第一區的第二突出部；

所述第二突出部位于所述第一子遮光條上遠離所述第一突出部的一側；

或者，所述第二突出部與所述第一突出部位于所述第一子遮光條的同一側。

3.根據權利要求2所述的掩膜版，其特征在于，

所述第二突出部的面積小于或等于所述第一突出部的面積。

4.根據權利要求1所述的掩膜版，其特征在于，

任一所述第一遮光條還包括多個重復設置的第二子遮光條，所述第二子遮光條與所述第一子遮光條間隔設置；

所述第二子遮光條位于所述第一遮光條與所述第二遮光條的重疊區域，所述第二子遮光條包括至少四個覆蓋部分所述第一區的第三突出部，至少一所述第三突出部與一所述第一區對應。

5.根據權利要求4所述的掩膜版，其特征在于，

所述第一支撐條沿所述第一方向設置于所述中空區，第二支撐條沿所述第二方向設置于所述中空區，一所述第一支撐條與一所述第一子遮光條對應，一所述第二支撐條與一所述第二子遮光條對應。

6.一種掩膜版的制作方法，用于制作如權利要求1至5任一項所述的掩膜版，其特征在于，包括：

提供一外框，所述外框包括中空區；

在所述中空區內設置多個沿第一方向并列設置的第一遮光條；

在所述中空區內設置多個沿第二方向并列設置的第二遮光條；

在任意相鄰兩個所述第一遮光條之間設置一第一金屬條，所述第一金屬條經圖案化處理形成多個第一子遮光條；

其中，多個所述第一遮光條及多個所述第二遮光條將所述中空區劃分為多個第一區，所述第一子遮光條在所述第一遮光條上重復設置；

一所述第一子遮光條與一所述第一區對應，所述第一子遮光條位于在所述第二方向上的相鄰兩個所述第一區之間，所述第一子遮光條包括覆蓋部分所述第一區的第一突出部。

7.根據權利要求6所述的掩膜版的制作方法，其特征在于，所述掩膜版的制作方法還包括：

在任一所述第一遮光條上設置一覆蓋所述第一遮光條的第二金屬條，所述第二金屬條經圖案化處理形成多個第二子遮光條；

所述第二子遮光條與所述第一子遮光條間隔設置，所述第二子遮光條位于所述第一遮光條與所述第二遮光條的重疊區域，所述第二子遮光條包括至少四個覆蓋部分所述第一區的第三突出部，至少一所述第三突出部與一所述第一區對應。