[發(fā)明專利]帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010343206.X | 申請日： | 2020-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN111913362B | 公開（公告）日： | 2022-11-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 安井健一;加藤靖雄 | 申請（專利權(quán)）人： | 紐富來科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 永新專利商標(biāo)代理有限公司 72002 | 代理人： | 牛玉婷 |
| 地址： | 日本神*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 帶電 粒子束 描繪 方法 以及 裝置 | ||
1.一種帶電粒子束描繪方法，使用對鄰近效應(yīng)以及與鄰近效應(yīng)相比影響半徑更小的中距離效應(yīng)進(jìn)行校正的照射量的帶電粒子束，對基板描繪圖案，具備如下工序：
以第一網(wǎng)格尺寸將所述基板的描繪區(qū)域虛擬分割為多個第一網(wǎng)格區(qū)域；
計算每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的圖案的面積密度，制作第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
將所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)的網(wǎng)格尺寸轉(zhuǎn)換為比所述第一網(wǎng)格尺寸大的第二網(wǎng)格尺寸而制作第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
進(jìn)行所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)與鄰近效應(yīng)校正內(nèi)核的卷積運算，制作第三網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
將所述第三網(wǎng)格數(shù)據(jù)的網(wǎng)格尺寸轉(zhuǎn)換為所述第一網(wǎng)格尺寸而制作第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
進(jìn)行所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)與中距離效應(yīng)校正內(nèi)核的卷積運算，制作第五網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
將所述第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)與所述第五網(wǎng)格數(shù)據(jù)相加，計算每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的帶電粒子束的照射量；以及
使用該計算出的照射量的帶電粒子束，對所述基板描繪圖案。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，
將計算出的每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的帶電粒子束的照射量用作所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)，重復(fù)進(jìn)行多次所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作、所述第三網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作、所述第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作、所述第五網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作以及每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的帶電粒子束的照射量的計算的各工序。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，
在初次制作所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)時存在網(wǎng)格值為0的網(wǎng)格區(qū)域的情況下，在第二次之后的所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作工序中，對于對應(yīng)的網(wǎng)格區(qū)域的網(wǎng)格值設(shè)定0。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，
對于所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)中面積密度為0的第一網(wǎng)格區(qū)域所對應(yīng)的網(wǎng)格區(qū)域的網(wǎng)格值設(shè)定0而制作所述第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，
所述第二網(wǎng)格尺寸是所述第一網(wǎng)格尺寸的n倍，其中，n是2以上的整數(shù)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的帶電粒子束描繪方法，其特征在于，
將多個所述第一網(wǎng)格區(qū)域結(jié)合而制作包含第二網(wǎng)格區(qū)域的所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)，
根據(jù)所述第二網(wǎng)格區(qū)域包含的多個第一網(wǎng)格區(qū)域的面積密度，計算該第二網(wǎng)格區(qū)域的網(wǎng)格值。
7.一種帶電粒子束描繪裝置，使用對鄰近效應(yīng)以及與鄰近效應(yīng)相比影響半徑更小的中距離效應(yīng)進(jìn)行校正的照射量的帶電粒子束，對基板描繪圖案，具備：
網(wǎng)格分割部，以第一網(wǎng)格尺寸將所述基板的描繪區(qū)域虛擬分割為多個第一網(wǎng)格區(qū)域；
面積密度計算部，計算每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的圖案的面積密度，制作第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
第一網(wǎng)格轉(zhuǎn)換部，將所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)的網(wǎng)格尺寸轉(zhuǎn)換為比所述第一網(wǎng)格尺寸大的第二網(wǎng)格尺寸而制作第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
第一卷積運算部，進(jìn)行所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)與鄰近效應(yīng)校正內(nèi)核的卷積運算，制作第三網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
第二網(wǎng)格轉(zhuǎn)換部，將所述第三網(wǎng)格數(shù)據(jù)的網(wǎng)格尺寸轉(zhuǎn)換為所述第一網(wǎng)格尺寸而制作第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
第二卷積運算部，進(jìn)行所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)與中距離效應(yīng)校正內(nèi)核的卷積運算，制作第五網(wǎng)格數(shù)據(jù)；
加法部，將所述第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)與所述第五網(wǎng)格數(shù)據(jù)相加，計算每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的帶電粒子束的照射量；以及
描繪部，使用該計算出的照射量的帶電粒子束，對所述基板描繪圖案。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，
將計算出的每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的帶電粒子束的照射量用作所述第一網(wǎng)格數(shù)據(jù)，重復(fù)進(jìn)行多次所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作、所述第三網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作、所述第四網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作、所述第五網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作以及每個所述第一網(wǎng)格區(qū)域的帶電粒子束的照射量的計算的各處理。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的帶電粒子束描繪裝置，其特征在于，
在初次制作所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)時存在網(wǎng)格值為0的網(wǎng)格區(qū)域的情況下，所述第一網(wǎng)格轉(zhuǎn)換部在第二次之后的所述第二網(wǎng)格數(shù)據(jù)的制作時，對于對應(yīng)的網(wǎng)格區(qū)域的網(wǎng)格值設(shè)定0。
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