[發明專利]殼體組件、制備方法和電子設備

在審

• 申請號: 202010337024.1
• 申請日: 2020-04-26
• 公開（公告）號: CN111491471A
• 公開（公告）日: 2020-08-04
• 發明（設計）人: 孫文峰;楊光明
• 申請（專利權）人: OPPO廣東移動通信有限公司
• 主分類號: H05K5/00
• 分類號: H05K5/00;H05K5/02;H04M1/02
• 代理公司: 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201
• 代理人: 尚偉凈

1.一種殼體組件，其特征在于，包括：

基材，所述基材具有相對的第一面和第二面，所述第一面的表面具有第一光學紋理；

裝飾層，所述裝飾層位于所述第二面一側，所述裝飾層包括可與所述第一光學紋理形成干涉條紋的第二光學紋理。

2.根據權利要求1所述的殼體組件，其特征在于，所述第一光學紋理和所述第一面為一體結構。

3.根據權利要求1所述的殼體組件，其特征在于，所述第一面是由第一聚合物形成的，所述第二面是由第二聚合物形成的；

任選地，所述第一聚合物和所述第二聚合物分別獨立地為PMMA或者PC，且所述第一聚合物和所述第二聚合物不相同。

4.根據權利要求1所述的殼體組件，其特征在于，所述裝飾層進一步包括以下結構的至少之一：

鍍膜亞層，所述鍍膜亞層位于所述第二光學紋理遠離所述第二面的一側；

油墨亞層，所述油墨亞層位于所述鍍膜亞層遠離所述第二光學紋理的一側。

5.根據權利要求1-4任一項所述的殼體組件，其特征在于，所述第一光學紋理包括多個陣列排布的紋理結構，所述紋理結構的線長為100-130微米，紋理深度為3-5微米，相鄰兩條紋理結構之間的間距為30-60微米；

任選地，所述紋理結構包括多邊形。

6.根據權利要求5所述的殼體組件，其特征在于，所述第二光學紋理是由UV轉印膠形成的，所述第二光學紋理包括多個條紋，所述條紋的線寬為50-80微米。

7.根據權利要求1所述的殼體組件，其特征在于，所述基材包括主體面，以及自所述主體面的邊緣向著同一側延伸的多個側壁。

8.一種制備權利要求1-7任一項所述的殼體組件的方法，其特征在于，包括：

提供基材，所述基材具有相對的第一面和第二面；

所述方法包括在所述第一面形成第一光學紋理和在所述第二面形成裝飾層的步驟，所述裝飾層包括可與所述第一光學紋理形成干涉條紋的第二光學紋理。

9.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，所述基材的所述第一面是由PMMA形成的，所述第二面是由PC形成的，所述第二光學紋理是通過在所述第二面上轉印UV膠水形成的，所述UV膠水的固化能量在500～1200mj/cm²，所述UV膠水的為厚度8～12微米。

10.根據權利要求8所述的方法，其特征在于，形成所述裝飾層進一步包括：

形成所述第二光學紋理之前，預先在所述第二面上進行絲印鏡面油墨；

形成所述第二光學紋理之后，在所述第二光學紋理遠離所述第二面的一側形成鍍膜亞層，形成所述鍍膜亞層的材料包括In/Sn以及不導電氧化物的至少之一，所述鍍膜亞層的厚度不大于200nm；

在所述鍍膜亞層遠離所述第二光學紋理的一側形成油墨亞層，所述油墨亞層是通過絲印3～4層油墨而形成的，每層所述油墨的厚度為6-8微米。

11.根據權利要求8-10任一項所述的方法，其特征在于，所述第一光學紋理是通過平板壓紋、熱壓或是注塑形成的。

12.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述基材的所述第一面是由PMMA形成的，所述第二面是由PC形成的，所述第一光學紋理是通過在所述第一面進行平板壓紋處理而形成的，所述平板壓紋處理的溫度為100-130攝氏度。

13.根據權利要求11所述的方法，其特征在于，所述方法包括：利用熱彎模具對所述基材進行熱彎處理，所述熱彎處理中與所述基材的所述第一面相接觸的模具表面具有用于形成所述第一光學紋理相匹配的圖案，以在所述第一面上形成所述第一光學紋理的同時，形成主體面和自所述主體面的邊緣向著同一側延伸的多個側壁。