[發明專利]真空載片裝置及真空鍍膜設備

在審

• 申請號: 202010325254.6
• 申請日: 2020-04-23
• 公開（公告）號: CN111334772A
• 公開（公告）日: 2020-06-26
• 發明（設計）人: 李王俊;陳晨
• 申請（專利權）人: 蘇州邁正科技有限公司
• 主分類號: C23C14/50
• 分類號: C23C14/50;C23C14/22;C23C16/458;C23C16/44
• 代理公司: 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463
• 代理人: 孫海杰

1.一種真空載片裝置，其特征在于，所述真空載片裝置包括：腔體(100)、載片架(200)和分氣模組(300)，所述載片架(200)和所述分氣模組(300)均位于所述腔體(100)內部，且所述載片架(200)和所述分氣模組(300)沿第一方向依次設置；

所述分氣模組(300)包括進氣口、出氣口、以及連通進氣口和出氣口的通道，所述進氣口與外界氣源連通，以使外界的氣體能夠通過所述分氣模組(300)進入到所述腔體(100)內部，所述出氣口設置在所述分氣模組(300)的側壁上，所述出氣口朝向所述載片架(200)的周向外側。

2.根據權利要求1所述的真空載片裝置，其特征在于，所述出氣口的數量為多個。

3.根據權利要求1所述的真空載片裝置，其特征在于，所述出氣口上設置有微孔擴散器(400)，用于使出氣均勻。

4.根據權利要求3所述的真空載片裝置，其特征在于，所述微孔擴散器(400)的微孔的孔徑小于等于0.003微米。

5.根據權利要求1所述的真空載片裝置，其特征在于，所述分氣模組(300)包括多個填充塊(310)，每個所述填充塊(310)上均設置有進氣口和出氣口。

6.根據權利要求1或5所述的真空載片裝置，其特征在于，所述腔體(100)上設置有回氣管路，所述回氣管路一端與所述進氣口連接，另一端與外界氣源連接，所述回氣管路上設置有閥門(500)，所述閥門(500)用于控制所述回氣管路的通斷。

7.根據權利要求6所述的真空載片裝置，其特征在于，所述回氣管路與所述進氣口之間設置有防止氣體外泄的密封結構。

8.根據權利要求6所述的真空載片裝置，其特征在于，所述真空載片裝置包括擋板(700)，所述擋板(700)位于所述分氣模組(300)和載片架(200)之間，且所述載片架(200)向所述擋板(700)的投影落在所述擋板(700)上。

9.根據權利要求8所述的真空載片裝置，其特征在于，所述擋板(700)上設置有進液口、出液口、以及連通所述進液口和出液口的冷卻液流道(800)。

10.一種真空鍍膜設備，其特征在于，包括權利要求1-9任意一項所述的真空載片裝置。