[發明專利]遠場渦流檢測微損傷的方法、裝置、設備和存儲介質在審
| 申請號: | 202010324368.9 | 申請日: | 2020-04-21 |
| 公開(公告)號: | CN111521670A | 公開(公告)日: | 2020-08-11 |
| 發明(設計)人: | 李小麗;陳新波;王莉;黃富明;時建云;單柏榮 | 申請(專利權)人: | 中國人民解放軍海軍航空大學青島校區 |
| 主分類號: | G01N27/90 | 分類號: | G01N27/90 |
| 代理公司: | 北京細軟智谷知識產權代理有限責任公司 11471 | 代理人: | 白冬梅 |
| 地址: | 266000 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 渦流 檢測 損傷 方法 裝置 設備 存儲 介質 | ||
1.一種遠場渦流檢測微損傷的方法,其特征在于,包括:
根據檢測靈敏度和滲透深度確定目標檢測頻率;
提取實驗數據,其中,所述實驗數據包括腐蝕尺寸、腐蝕深度、裂紋深度和裂紋長度;
根據所述實驗數據制作標準檢測試塊,其中,所述標準檢測試塊包括多層結構內層裂紋缺陷檢測試塊、多層結構內層腐蝕缺陷檢測試塊和多層結構鉚釘孔疲勞裂紋檢測試塊;
應用遠場渦流檢測技術,根據所述目標檢測頻率對相應的各個所述標準檢測試塊進行微損傷檢測,以確定各個所述標準檢測試塊的損傷類型和損傷位置;
其中,所述損傷類型包括多層結構內層裂紋缺陷、多層結構內層腐蝕缺陷、多層結構鉚釘孔疲勞裂紋缺陷。
2.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述多層結構內層裂紋缺陷的檢測中,通過對平板結構表面裂紋檢測和深層裂紋檢測,以確定檢測裂紋的最小精度和靈敏度。
3.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述多層結構內層腐蝕缺陷的影響因素包括缺陷深度影響、鋁板層數影響、缺陷大小影響和損傷位置影響。
4.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述多層結構鉚釘孔疲勞裂紋缺陷的檢測中,確定表層鉚釘孔疲勞裂紋檢測靈敏度,以及,多層蒙皮構造內部的鉚釘孔裂紋檢測靈敏度。
5.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述多層結構內層裂紋缺陷檢的測包括表面裂紋檢測和內部裂紋檢測,其中,所述表面裂紋檢測的影響因素包括腐蝕深度,所述內部裂紋檢測的影響因素包括裂紋深度;
相應的,若埋深相同,則檢測信號幅值與裂紋深度正相關。
6.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述多層結構內層腐蝕缺陷的檢測包括腐蝕缺陷深度實驗檢測和多層蒙皮結構實驗檢測,所述多層蒙皮結構實驗檢測的影響因素包括蒙皮厚度和缺陷深度;
相應的,若埋深相同,則檢測信號幅值和腐蝕缺陷的深度成線性關系。
7.根據權利要求1的方法,其特征在于,所述多層結構鉚釘孔疲勞裂紋缺陷的檢測中,檢測幅值與裂紋深度正相關;檢測信號的相位與缺陷位于蒙皮的層數和缺陷埋深相關。
8.一種遠場渦流檢測微損傷裝置,其特征在于,包括:
檢測頻率確定模塊,用于根據檢測靈敏度和滲透深度確定目標檢測頻率;
數據提取模塊,用于提取實驗數據,其中,所述實驗數據包括腐蝕尺寸、腐蝕深度、裂紋深度和裂紋長度;
檢測試塊制作模塊,用于根據實驗數據制作標準檢測試塊,其中,所述標準檢測試塊包括多層結構內層裂紋缺陷檢測試塊、多層結構內層腐蝕缺陷檢測試塊和多層結構鉚釘孔疲勞裂紋檢測試塊;
微損傷檢測模塊,用于應用遠場渦流檢測技術,根據所述目標檢測頻率對相應的各個所述標準檢測試塊進行微損傷檢測,以確定各個所述標準檢測試塊的損傷類型和損傷位置;
其中,所述損傷類型包括多層結構內層裂紋缺陷、多層結構內層腐蝕缺陷、多層結構鉚釘孔疲勞裂紋缺陷。
9.一種設備,其特征在于,包括:
處理器,以及與處理器相連接的存儲器;
存儲器用于存儲計算機程序,計算機程序至少用于執行權利要求1-7任一項的遠場渦流檢測微損傷方法;
處理器用于調用并執行存儲器中的計算機程序。
10.一種存儲介質,其特征在于,存儲介質存儲有計算機程序,計算機程序被處理器執行時,實現如權利要求1-7任一項的遠場渦流檢測微損傷方法中各個步驟。
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