[發明專利]濺射裝置

在審

• 申請號: 202010323404.X
• 申請日: 2020-04-22
• 公開（公告）號: CN111826630A
• 公開（公告）日: 2020-10-27
• 發明（設計）人: 村上尚史;吉良隆一;神丸剛
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/34
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;張會華

本發明提供一種濺射裝置(1)，其具有成膜輥(27)和多個成膜室(51、61、65、71、75)。多個成膜室(51、61、65、71、75)均具有靶單元(55)和劃分出成膜室的壁部(52、62、66、72、76)。在壁部(52、62、66、72、76)設有排氣口(15)。在第1剖視圖中，在經過成膜輥中心(C1)和排氣口中心(C2)的第1假想線(L1)上配置有靶單元(55)。

技術領域

本發明涉及一種濺射裝置。

背景技術

以往，作為相對于長條的膜形成均勻的薄膜并連續地制造帶薄膜的膜的裝置，公知一種卷對卷方式的濺射裝置。并且，還公知一種為了將薄膜設為多個或者將薄膜加厚而沿輸送方向設置多個濺射靶來實施多次濺射的濺射裝置(參照專利文獻1)。

在專利文獻1的濺射裝置中，在一個大成膜室(成膜腔室)的內部配置有一個成膜輥，在其周向配置有3個靶和陰極。另外，各靶和陰極收納于由分隔壁劃分出的小成膜室內。并且，為了使各小成膜室成為真空，一個真空泵設于大成膜室內的除了小成膜室之外的部位的壁。

在專利文獻1的濺射裝置中，由于能夠在成膜輥的周向高效地配置靶，因此能夠使裝置緊湊化。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2015-74820號公報

發明內容

發明要解決的問題

另外，在專利文獻1的濺射裝置中，有時所形成的薄膜的厚度產生不均，因此期望厚度的進一步的均勻化。

本發明的發明人們關于該膜厚的不均進行了討論，得到了以下的見解。在實施濺射的情況下，濺射所需的氣體(氬等)連續地相對于小成膜室內供給和排出。具體而言，氣體從各小成膜室的陰極向成膜輥附近噴射，在對膜進行的濺射中使用，然后從真空泵向外部排出。這時，在專利文獻1的裝置中，被供給的氣體朝向在除了多個小成膜室之外的壁設置的一個真空泵流動，并從該真空泵向外部排出。因此，在各成膜室中，氣體的流動不同。即，在輸送方向上游的小成膜室中，氣體與膜的輸送方向相反地流動，在輸送方向下游側的小成膜室中，氣體沿著膜的輸送方向流動。在輸送方向中央的成膜室中，上述兩個氣體的流動混合，朝向輸送方向下游側流動的氣體與輸送方向下游側的小成膜室的氣體合流，朝向輸送方向上游側流動的氣體與輸送方向上游側的小成膜室的氣體合流。其結果是，氣體發生紊流，對濺射產生影響，得到的薄膜不均勻。

本發明提供一種能夠形成均勻的膜厚的濺射裝置。

用于解決問題的方案

本發明[1]包括一種濺射裝置，該濺射裝置具有：成膜輥，該成膜輥沿周向輸送膜；以及多個成膜室，該多個成膜室沿著所述成膜輥的周向配置，在該濺射裝置中，所述多個成膜室均具有：靶單元，該靶單元與所述成膜輥隔有間隔地相對配置；以及壁部，該壁部劃分出所述成膜室，在所述壁部設有排氣部，在與所述成膜輥的軸向正交的剖視圖中，在經過所述成膜輥的中心和所述排氣部的中心的第1假想線上配置有所述靶單元。

根據該濺射裝置，由于在多個成膜室均設有靶單元、壁部以及排氣部，因此，向各成膜室供給的氣體通過配置于各成膜室的排氣部排出。因此，能夠抑制供給到一個成膜室的氣體向在其周向上相鄰的成膜室流入。

另外，在各成膜室中，由于在經過成膜輥中心和排氣部中心的第1假想線上配置有靶單元，因此，用于成膜的氣體從成膜輥附近被靶單元以第1假想線為中心地對稱地分開，向排氣部排出。即，能夠使氣體從供給到排氣為止的流動均等，能夠抑制氣體的紊流。

因此，能夠抑制因氣體導致的成膜的不均，能夠使均勻的膜厚的薄膜形成于膜。