[發明專利]濺射裝置在審
| 申請號: | 202010323404.X | 申請日: | 2020-04-22 |
| 公開(公告)號: | CN111826630A | 公開(公告)日: | 2020-10-27 |
| 發明(設計)人: | 村上尚史;吉良隆一;神丸剛 | 申請(專利權)人: | 日東電工株式會社 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇;張會華 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 濺射 裝置 | ||
1.一種濺射裝置,其具有:
成膜輥,該成膜輥沿周向輸送膜;以及
多個成膜室,該多個成膜室沿著所述成膜輥的周向配置,
該濺射裝置的特征在于,
所述多個成膜室均具有:
靶單元,該靶單元與所述成膜輥隔有間隔地相對配置;以及
壁部,該壁部劃分出所述成膜室,
在所述壁部設有排氣部,
在與所述成膜輥的軸向正交的剖視圖中,在經過所述成膜輥的中心和所述排氣部的中心的第1假想線上配置有所述靶單元。
2.根據權利要求1所述的濺射裝置,其特征在于,
所述壁部具有:
排氣壁,在該排氣壁設有所述排氣部;以及
兩個分隔壁,該兩個分隔壁從所述排氣壁朝向所述成膜輥地沿徑向延伸,彼此隔有間隔地配置,
所述排氣壁相對于所述第1假想線對稱。
3.根據權利要求2所述的濺射裝置,其特征在于,
所述兩個分隔壁相對于所述第1假想線對稱。
4.根據權利要求1~3中任一項所述的濺射裝置,其特征在于,
所述壁部還具有將所述排氣壁和所述分隔壁連結起來的連結壁,
所述連結壁相對于經過所述成膜室的在所述軸向上的中心的第2假想線對稱。
5.根據權利要求1~3中任一項所述的濺射裝置,其特征在于,
在所述多個成膜室均設有與所述排氣部相連結的泵。
6.根據權利要求1~3中任一項所述的濺射裝置,其特征在于,
所述排氣部相對于經過所述成膜室的在所述軸向上的中心的第2假想線對稱。
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