[發(fā)明專利]檢測(cè)目標(biāo)區(qū)域CNV的方法及裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010319303.5 | 申請(qǐng)日: | 2020-04-21 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111508559B | 公開(公告)日: | 2021-08-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 曹善柏;陳利斌;郭璟;樓峰 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京橡鑫生物科技有限公司;天津橡鑫生物科技有限公司;北京橡鑫醫(yī)學(xué)科技有限公司 |
| 主分類號(hào): | G16B20/20 | 分類號(hào): | G16B20/20;G16B50/00 |
| 代理公司: | 北京康信知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11240 | 代理人: | 路秀麗 |
| 地址: | 100080 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 檢測(cè) 目標(biāo) 區(qū)域 cnv 方法 裝置 | ||
本發(fā)明提供了一種檢測(cè)目標(biāo)區(qū)域CNV的方法及裝置。該方法包括分別獲取多個(gè)對(duì)照樣本和待測(cè)樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù),記為對(duì)照數(shù)據(jù)和待測(cè)數(shù)據(jù);從對(duì)照數(shù)據(jù)中篩選出測(cè)序深度的大小關(guān)系全部保持一致的兩個(gè)外顯子,記作參照成對(duì)外顯子,兩者測(cè)序深度的大小關(guān)系記作參照關(guān)系,所有參照成對(duì)外顯子的參照關(guān)系構(gòu)成了參照關(guān)系譜;按照參照關(guān)系譜,檢測(cè)待測(cè)數(shù)據(jù)中參照成對(duì)外顯子的測(cè)序深度的大小關(guān)系,記為待測(cè)關(guān)系;檢測(cè)待測(cè)關(guān)系與參照關(guān)系不一致的次數(shù)是否存在顯著多次,若存在顯著多次,則判定待測(cè)樣本的目標(biāo)區(qū)域發(fā)生CNV,反之,不發(fā)生。該方法避免了現(xiàn)有方法中對(duì)測(cè)序數(shù)據(jù)進(jìn)行標(biāo)準(zhǔn)化處理而導(dǎo)致數(shù)據(jù)敏感性降低以及檢測(cè)結(jié)果穩(wěn)定性差的問題。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及基因測(cè)序數(shù)據(jù)分析領(lǐng)域,具體而言,涉及一種檢測(cè)目標(biāo)區(qū)域CNV的方法及裝置。
背景技術(shù)
CNV(Copy number variation,拷貝數(shù)變異)根據(jù)大小可分為兩個(gè)層次:顯微水平(microscopic)和亞顯微水平(submicroscopic)。顯微水平的基因組結(jié)構(gòu)變異主要是指顯微鏡下可見的染色體畸變,包括整倍體或非整倍體、缺失、插入、倒位、易位、脆性位點(diǎn)等結(jié)構(gòu)變異。亞微水平的基因組結(jié)構(gòu)變異是指DNA片段長度在1Kb-3Mb的基因組結(jié)構(gòu)變異,包括缺失、插入、重復(fù)等,這些統(tǒng)稱為CNV。
目前檢測(cè)CNV的主要方法包括低通量分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)和高通量二代測(cè)序技術(shù)(NGS)。低通量分子生物學(xué)實(shí)驗(yàn)技術(shù)包括染色體顯帶技術(shù)、熒光原位雜交技術(shù)(FISH)和微滴式數(shù)字PCR(ddPCR)。這些技術(shù)的主要缺陷包括:分辨率低、操作復(fù)雜、檢測(cè)通量低且受人為因素影響較大。相比之下,二代測(cè)序技術(shù)在腫瘤組織樣本CNV檢測(cè)上具有較高的敏感性,但分析過程復(fù)雜,嚴(yán)重依賴于算法設(shè)計(jì),目前存在的算法包括:CNVkit,Control-FreeC和contra。
CNVkit:輸出的結(jié)果沒有進(jìn)行統(tǒng)計(jì)學(xué)模型檢驗(yàn),沒有明確的統(tǒng)計(jì)學(xué)意義。對(duì)于長度較大的基因,會(huì)出現(xiàn)將一個(gè)基因分成多個(gè)片段,且容易產(chǎn)生不同的CNV狀態(tài)和拷貝數(shù)目不一致情況。另外該算法沒有一個(gè)明確的閾值對(duì)是否發(fā)生CNV進(jìn)行定性。
Control-FreeC:該算法適用于全基因組測(cè)序和全外顯子測(cè)序,對(duì)于目前區(qū)域測(cè)序數(shù)據(jù)檢測(cè)效果不理想。尤其對(duì)于外顯子級(jí)別的檢測(cè)敏感性較低。
綜上可知,現(xiàn)有技術(shù)中尚無對(duì)區(qū)域測(cè)序數(shù)據(jù)中的CNV進(jìn)行有效分析的方案。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的在于提供一種檢測(cè)目標(biāo)區(qū)域CNV的方法及裝置,以解決現(xiàn)有技術(shù)中難以對(duì)來源于目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù)中的CNV進(jìn)行有效檢測(cè)的問題。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,根據(jù)本發(fā)明的一個(gè)方面,提供了一種檢測(cè)目標(biāo)區(qū)域CNV的方法,該方法包括:獲取多個(gè)對(duì)照樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù)記為對(duì)照數(shù)據(jù),同時(shí)獲取待測(cè)樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù),記為待測(cè)數(shù)據(jù);從多個(gè)對(duì)照樣本的對(duì)照數(shù)據(jù)中篩選出測(cè)序深度的大小關(guān)系全部保持一致的兩個(gè)外顯子,記作參照成對(duì)外顯子,參照成對(duì)外顯子的測(cè)序深度的大小關(guān)系記作參照關(guān)系,所有參照成對(duì)外顯子及參照成對(duì)外顯子的參照關(guān)系構(gòu)成了參照關(guān)系譜;按照參照關(guān)系譜,檢測(cè)待測(cè)數(shù)據(jù)中參照成對(duì)外顯子的測(cè)序深度的大小關(guān)系,記為待測(cè)關(guān)系;檢測(cè)待測(cè)關(guān)系與參照關(guān)系不一致的次數(shù)是否存在顯著多次,若存在顯著多次,則判定待測(cè)樣本的目標(biāo)區(qū)域發(fā)生CNV,反之,不發(fā)生。
進(jìn)一步地,獲取多個(gè)對(duì)照樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù)記為對(duì)照數(shù)據(jù),同時(shí)獲取待測(cè)樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù),記為待測(cè)數(shù)據(jù)包括:獲取多個(gè)對(duì)照樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù),并將測(cè)序數(shù)據(jù)與參考基因組序列進(jìn)行比對(duì),得到唯一比對(duì)序列,記為對(duì)照數(shù)據(jù);獲取待測(cè)樣本的目標(biāo)區(qū)域的測(cè)序數(shù)據(jù),并將測(cè)序數(shù)據(jù)與參考基因組序列進(jìn)行比對(duì),得到唯一比對(duì)序列,記為待測(cè)數(shù)據(jù)。
進(jìn)一步地,在獲得對(duì)照數(shù)據(jù)之后,以及從多個(gè)對(duì)照樣本的對(duì)照數(shù)據(jù)中篩選出測(cè)序深度的大小關(guān)系全部保持一致的兩個(gè)外顯子之前,方法還包括:利用對(duì)照數(shù)據(jù)計(jì)算各外顯子的測(cè)序深度,測(cè)序深度為覆蓋外顯子的堿基數(shù)與外顯子長度的比值。
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