[發明專利]光阻及其制備方法、顯示裝置

在審

• 申請號: 202010318442.6
• 申請日: 2020-04-21
• 公開（公告）號: CN111522199A
• 公開（公告）日: 2020-08-11
• 發明（設計）人: 任元;方群
• 申請（專利權）人: 武漢華星光電技術有限公司
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G02F1/1335
• 代理公司: 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570
• 代理人: 李新干

本發明公開了一種光阻及其制備方法、顯示裝置，所述光阻的組分按照質量分數包括5％～10％酚醛樹脂、5％～10％的單體、10％～15％的氧化鈦、1％～10％的光起始劑以及60％～80％的分散劑。本發明的技術效果在于，采提高所述光阻對紫外光的吸收利用率，增強所述光阻中酚醛樹脂的固化交聯程度。

技術領域

本發明涉及顯示領域，特別涉及一種光阻及其制備方法、顯示裝置。

背景技術

黑色矩陣(BM)是液晶顯示面板彩膜(CF)中的重要組成部分，其作用是起遮蔽作用、防止漏光和提高對比度。

隨著技術的進步，市場對液晶顯示屏幕的性能以及工藝水平要求越來越高，需要有較短的響應時間、較高的穿透率等。而提高穿透率的有效途徑是實現黑色矩陣的細線化，以實現高的黑色矩陣的開口率。因此，需要開發高解析度、高Taper角的黑色矩陣光阻，實現方案包括開發耐顯性及熱穩定性強樹脂，以及新型碳黑材料及其替代品等。

發明內容

本發明的目的在于，解決現有的顯示裝置中黑色矩陣光阻對紫外線的吸收效率低，影響顯示裝置的顯示效果的技術問題。

為實現上述目的，本發明提供一種光阻，其組分按照質量分數包括

進一步地，所述氧化鈦為黑色。

進一步地，所述氧化鈦為顆粒狀。

進一步地，所述氧化鈦的直徑為5納米～25納米。

進一步地，所述氧化鈦含有羥基。

進一步地，所述氧化鈦為銳鈦礦。

進一步地，所述單體為丙烯酸樹脂，所述丙烯酸樹脂含有碳碳雙鍵。

為實現上述目的，本發明還提供一種顯示裝置，包括如前文所述的光阻，所述光阻用作黑色矩陣光阻。

為實現上述目的，本發明還提供一種光阻的制備方法，包括以下步驟：在一基板上涂布光阻材料；預烘烤所述光阻材料；曝光并顯影處理預烘烤后的光阻材料；以及硬烤處理顯影后的光阻材料。

進一步地，所述光阻材料包括酚醛樹脂、單體、氧化鈦、光起始劑以及分散劑。

本發明的技術效果在于，氧化鈦具有較強的紫外光的吸收能力，促進光引發劑產生自由基，使得單體聚合交聯，增強所述光阻中酚醛樹脂的固化交聯程度，有效縮短曝光的時間，實現高解析度，并且提高taper角。同時，提高所述光阻對紫外光的吸收利用率，增強所述光阻的遮光效果，進一步提高顯示裝置的顯示效果。

附圖說明

下面結合附圖，通過對本發明的具體實施方式詳細描述，將使本發明的技術方案及其它有益效果顯而易見。

圖1為本發明實施例所述光阻對光線的吸收示意圖；

圖2為本發明實施例所述光阻的制備方法的流程圖。

部分組件標識如下：

1、光阻；

11、氧化鈦；12、酚醛樹脂。

具體實施方式

下面將結合本發明實施例中的附圖，對本發明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述。顯然，所描述的實施例僅僅是本發明一部分實施例，而不是全部的實施例。基于本發明中的實施例，本領域技術人員在沒有作出創造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發明保護的范圍。