[發明專利]光阻及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請號： | 202010318442.6 | 申請日： | 2020-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN111522199A | 公開（公告）日： | 2020-08-11 |
| 發明（設計）人： | 任元;方群 | 申請（專利權）人： | 武漢華星光電技術有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/004 | 分類號： | G03F7/004;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 深圳紫藤知識產權代理有限公司 44570 | 代理人： | 李新干 |
| 地址： | 430079 湖北省武漢市*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 及其 制備 方法 顯示裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種光阻，其特征在于，其組分按照質量分數包括
2.如權利要求1所述的光阻，其特征在于，
所述氧化鈦為黑色。
3.如權利要求1所述的光阻，其特征在于，
所述氧化鈦為顆粒狀。
4.如權利要求1所述的光阻，其特征在于，
所述氧化鈦的直徑為5納米～25納米。
5.如權利要求1所述的光阻，其特征在于，
所述氧化鈦含有羥基。
6.如權利要求1所述的光阻，其特征在于，
所述氧化鈦為銳鈦礦。
7.如權利要求1所述的光阻，其特征在于，
所述單體為丙烯酸樹脂，所述丙烯酸樹脂含有碳碳雙鍵。
8.一種顯示裝置，包括如權利要求1～7中任一項所述的光阻，所述光阻用作黑色矩陣光阻。
9.一種光阻的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：
在一基板上涂布光阻材料；
預烘烤所述光阻材料；
曝光并顯影處理預烘烤后的光阻材料；以及
硬烤處理顯影后的光阻材料。
10.如權利要求9所述的光阻的制備方法，其特征在于，
所述光阻材料包括酚醛樹脂、單體、氧化鈦、光起始劑以及分散劑。
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