[發明專利]一種用于晶體生長的防遮擋測溫裝置在審
| 申請號： | 202010317440.5 | 申請日： | 2020-04-21 |
| 公開（公告）號： | CN111379019A | 公開（公告）日： | 2020-07-07 |
| 發明（設計）人： | 不公告發明人 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱科友半導體產業裝備與技術研究院有限公司 |
| 主分類號： | C30B23/00 | 分類號： | C30B23/00;C30B29/36;C30B29/40;G01J5/02 |
| 代理公司： | 哈爾濱市偉晨專利代理事務所(普通合伙) 23209 | 代理人： | 韓立巖 |
| 地址： | 150000 黑龍江省哈爾濱市南崗區*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 用于 晶體生長 遮擋 測溫 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種用于晶體生長的防遮擋測溫裝置，其特征在于：包括坩堝(1)、坩堝蓋(2)、導向筒(3)、測溫法蘭(4)、和反光鏡(12)；
所述坩堝(1)上設有坩堝蓋(2)，測溫法蘭(4)通過導向筒(3)與坩堝(1)內部連通，測溫法蘭(4)內設有測溫通路(8)，測溫通路(8)頂部設有反光鏡(12)，反光鏡(12)呈45°傾斜設置，且與反光鏡(12)相對的水平方向上設有測溫孔(13)，測溫通路(8)的兩側分別通過進氣導向通路(7)和出氣導向通路(10)與進氣通路(6)和出氣通路(9)相連通，進氣通路(6)和出氣通路(9)分別與測溫法蘭(4)兩側的進氣口(5)和出氣口(11)相連通。
2.根據權利要求1所述的一種用于晶體生長的防遮擋測溫裝置，其特征在于：所述進氣導向通路(7)呈45°傾斜設置，且軸線與反光鏡(12)的鏡面垂直。
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