[發明專利]一種化學機械平坦化設備在審
| 申請號： | 202010312266.5 | 申請日： | 2020-04-20 |
| 公開（公告）號： | CN111618736A | 公開（公告）日： | 2020-09-04 |
| 發明（設計）人： | 李婷;岳爽;尹影;崔凱;蔣錫兵;靳陽 | 申請（專利權）人： | 北京爍科精微電子裝備有限公司 |
| 主分類號： | B24B37/10 | 分類號： | B24B37/10;B24B37/34;B24B53/017;B24B41/02;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人： | 于妙卓 |
| 地址： | 100176 北京市*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 化學 機械 平坦 設備 | ||
1.一種化學機械平坦化設備，晶圓(2)與拋光墊(1)接觸時，所述晶圓(2)上具有接觸區域(3)，其特征在于，該平坦化設備上設有噴液組件，所述噴液組件具有至少一個出液口(5)，從所述出液口(5)噴出的液體均勻地分布在所述接觸區域(3)上。
2.根據權利要求1所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述噴液組件相對所述拋光墊(1)移動設置，所述噴液組件的移動軌跡與所述晶圓(2)相對所述拋光墊(1)的移動軌跡相同。
3.根據權利要求2所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述噴液組件相對所述晶圓(2)在所述移動軌跡上，位于所述晶圓(2)的前方。
4.根據權利要求1所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述噴液組件在接觸區域(3)的周邊擺動。
5.根據權利要求1-4中任一項所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，還包括修整組件(4)，所述修整組件(4)為噴液組件。
6.根據權利要求5所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述修整組件(4)包括與所述拋光墊(1)接觸的修整端(41)，所述出液口(5)位于所述修整端(41)上。
7.根據權利要求6所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述出液口(5)設于所述修整端(41)的外周壁上。
8.根據權利要求7所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述出液口(5)為多個，且沿所述修整端(41)的外周壁均勻分布。
9.根據權利要求6所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述出液口(5)設于所述修整端(41)的底部。
10.根據權利要求6-9中任一項所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述修整組件(4)還包括相對所述拋光墊(1)移動的移動臂(43)，所述移動臂(43)上設置有所述修整端(41)，所述移動臂(43)內設置有與所述出液口(5)連通的輸液管路。
11.根據權利要求10所述的化學機械平坦化設備，其特征在于，所述移動臂(43)上設置有所述出液口(5)。
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