[發明專利]一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置在審
| 申請號: | 202010300522.9 | 申請日: | 2020-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN111323191A | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發明(設計)人: | 王光遠;高行素;檀傈錳;吳永勝;王曉姝;王澤宇 | 申請(專利權)人: | 北京空間飛行器總體設計部 |
| 主分類號: | G01M7/02 | 分類號: | G01M7/02;G01M11/00 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 李晶堯 |
| 地址: | 100094 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 航天器 振動 光學 相機 成像 質量 影響 測試 裝置 | ||
本發明涉及一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置,屬于航天器成像系統領域;包括待測模型、第二反射鏡、高平行度同軸光源、第三反射鏡、第一反射鏡和高解析度相機;高平行度同軸光源水平設置在待測模型的側壁處;高平行度同軸光源發射的測試光通過通孔照射入待測模型內;第一反射鏡設置在與高平行度同軸光源相對的待測模型側壁上;第二反射鏡設置在與第一反射鏡相對的待測模型側壁上;第三反射鏡設置在待測模型的底板上;高解析度相機豎直設置在待測模型的頂部;本發明既可以分析整個成像光路的振動,又可以分析各級反射鏡的振動,成像系統具有較高的可設計性,所得圖像的振動信息更加豐富。
技術領域
本發明屬于航天器成像系統領域,涉及一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置。
背景技術
當受到外界振源的激勵時,系統可能產生受迫振動,對于精密制造業,航空,航天和武器裝備等領域,振動超過一定程度可能會導致設備無法正常工作,因此需要進行振動試驗,檢測系統的振動響應。
對于某些系統最為關注不同區域之間的相對振動,如航天器上的成像系統,最為關注光源經各級反射鏡到成像焦平面的成像路徑受振動的影響,目前應用的振動檢測方法為光測法,通過布置模擬光源,搭建測試光路,在焦平面處布置激光位置敏感傳感器,傳感器所測光斑的像位移代表了整個成像系統的振動響應。這種測量手段只能得到整個成像光路的振動信息,而無法分析光路各部分的影響情況。
發明內容
本發明解決的技術問題是:克服現有技術的不足,提出一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置,既可以分析整個成像光路的振動,又可以分析各級反射鏡的振動,成像系統具有較高的可設計性,所得圖像的振動信息更加豐富。
本發明解決技術的方案是:
一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置,包括待測模型、第二反射鏡、高平行度同軸光源、第三反射鏡、第一反射鏡和高解析度相機;其中,待測模型為中空長方體結構;高平行度同軸光源水平設置在待測模型的側壁處;待測模型的側壁對應高平行度同軸光源的位置設置有通孔;實現高平行度同軸光源發射的測試光通過通孔照射入待測模型內;第二反射鏡、第三反射鏡和第一反射鏡設置在待測模型內部;且第一反射鏡設置在與高平行度同軸光源相對的待測模型側壁上,位置與測試光對應;第二反射鏡設置在與第一反射鏡相對的待測模型側壁上;第三反射鏡設置在待測模型的底板上;高解析度相機豎直設置在待測模型的頂部;且待測模型頂部對應高解析度相機位置設置有通孔;實現測試光依次經第一反射鏡反射、第二反射鏡反射、第三反射鏡反射后,到達高解析度相機,高解析度相機實現解析成像。
在上述的一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置,所述高平行度同軸光源的距地高度為100-200mm;第一反射鏡的安裝高度與高平行度同軸光源高度對應,第一反射鏡與待測模型豎直側壁的夾角為α;第二反射鏡的安裝高度為400-800mm,第二反射鏡與待測模型豎直側壁的夾角為β;第三反射鏡水平距第二反射鏡300-600mm;第三反射鏡與待測模型水平底板的夾角為γ;3個夾角的關系滿足:β+γ-α=45°;且β>2α。
在上述的一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置,所述第二反射鏡、第三反射鏡和第一反射鏡為相同尺寸的圓形結構;且第二反射鏡、第三反射鏡和第一反射鏡的鏡面上均貼有光吸收膜;其中,光吸收膜為弓形形狀;光吸收膜的半徑與反射鏡的半徑對應;光吸收膜的弧長為反射鏡弧長的1/3。
在上述的一種航天器微振動對光學相機成像質量影響測試裝置,設定第二反射鏡、第三反射鏡和第一反射鏡的頂部為0°位置;第一反射鏡中,光吸收膜貼在第一反射鏡的0°-120°圓弧與弦線圍成的弓形區域;第二反射鏡中,光吸收膜貼在第二反射鏡的120°-240°圓弧與弦線圍成的弓形區域;第三反射鏡中,光吸收膜貼在第三反射鏡的240°-360°圓弧與弦線圍成的弓形區域。
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