[發(fā)明專(zhuān)利]一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010300522.9 | 申請(qǐng)日: | 2020-04-16 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111323191A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王光遠(yuǎn);高行素;檀傈錳;吳永勝;王曉姝;王澤宇 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 北京空間飛行器總體設(shè)計(jì)部 |
| 主分類(lèi)號(hào): | G01M7/02 | 分類(lèi)號(hào): | G01M7/02;G01M11/00 |
| 代理公司: | 中國(guó)航天科技專(zhuān)利中心 11009 | 代理人: | 李晶堯 |
| 地址: | 100094 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 航天器 振動(dòng) 光學(xué) 相機(jī) 成像 質(zhì)量 影響 測(cè)試 裝置 | ||
1.一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:包括待測(cè)模型(1)、第二反射鏡(2)、高平行度同軸光源(3)、第三反射鏡(4)、第一反射鏡(5)和高解析度相機(jī)(6);其中,待測(cè)模型(1)為中空長(zhǎng)方體結(jié)構(gòu);高平行度同軸光源(3)水平設(shè)置在待測(cè)模型(1)的側(cè)壁處;待測(cè)模型(1)的側(cè)壁對(duì)應(yīng)高平行度同軸光源(3)的位置設(shè)置有通孔;實(shí)現(xiàn)高平行度同軸光源(3)發(fā)射的測(cè)試光通過(guò)通孔照射入待測(cè)模型(1)內(nèi);第二反射鏡(2)、第三反射鏡(4)和第一反射鏡(5)設(shè)置在待測(cè)模型(1)內(nèi)部;且第一反射鏡(5)設(shè)置在與高平行度同軸光源(3)相對(duì)的待測(cè)模型(1)側(cè)壁上,位置與測(cè)試光對(duì)應(yīng);第二反射鏡(2)設(shè)置在與第一反射鏡(5)相對(duì)的待測(cè)模型(1)側(cè)壁上;第三反射鏡(4)設(shè)置在待測(cè)模型(1)的底板上;高解析度相機(jī)(6)豎直設(shè)置在待測(cè)模型(1)的頂部;且待測(cè)模型(1)頂部對(duì)應(yīng)高解析度相機(jī)(6)位置設(shè)置有通孔;實(shí)現(xiàn)測(cè)試光依次經(jīng)第一反射鏡(5)反射、第二反射鏡(2)反射、第三反射鏡(4)反射后,到達(dá)高解析度相機(jī)(6),高解析度相機(jī)(6)實(shí)現(xiàn)解析成像。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:所述高平行度同軸光源(3)的距地高度為100-200mm;第一反射鏡(5)的安裝高度與高平行度同軸光源(3)高度對(duì)應(yīng),第一反射鏡(5)與待測(cè)模型(1)豎直側(cè)壁的夾角為α;第二反射鏡(2)的安裝高度為400-800mm,第二反射鏡(2)與待測(cè)模型(1)豎直側(cè)壁的夾角為β;第三反射鏡(4)水平距第二反射鏡(2)300-600mm;第三反射鏡(4)與待測(cè)模型(1)水平底板的夾角為γ;3個(gè)夾角的關(guān)系滿足:β+γ-α=45°;且β>2α。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:所述第二反射鏡(2)、第三反射鏡(4)和第一反射鏡(5)為相同尺寸的圓形結(jié)構(gòu);且第二反射鏡(2)、第三反射鏡(4)和第一反射鏡(5)的鏡面上均貼有光吸收膜(7);其中,光吸收膜(7)為弓形形狀;光吸收膜(7)的半徑與反射鏡的半徑對(duì)應(yīng);光吸收膜(7)的弧長(zhǎng)為反射鏡弧長(zhǎng)的1/3。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:設(shè)定第二反射鏡(2)、第三反射鏡(4)和第一反射鏡(5)的頂部為0°位置;第一反射鏡(5)中,光吸收膜(7)貼在第一反射鏡(5)的0°-120°圓弧與弦線圍成的弓形區(qū)域;第二反射鏡(2)中,光吸收膜(7)貼在第二反射鏡(2)的120°-240°圓弧與弦線圍成的弓形區(qū)域;第三反射鏡(4)中,光吸收膜(7)貼在第三反射鏡(4)的240°-360°圓弧與弦線圍成的弓形區(qū)域。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:所述高平行度同軸光源(3)發(fā)出的測(cè)試光的波長(zhǎng)為633nm,光束發(fā)散角小于1.7mrad。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:高解析度相機(jī)(6)的最大分辨率為2560*1920;在待測(cè)模型(1)的振動(dòng)過(guò)程中,高解析度相機(jī)(6)實(shí)現(xiàn)對(duì)測(cè)試光的高速拍照,滿幅采集速度為1600FPS,位移測(cè)量精度優(yōu)于1μm。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種航天器微振動(dòng)對(duì)光學(xué)相機(jī)成像質(zhì)量影響測(cè)試裝置,其特征在于:光吸收膜(7)實(shí)現(xiàn)對(duì)測(cè)試光的吸收;實(shí)現(xiàn)反射光照射在光吸收膜(7)位置的光停止繼續(xù)反射;光吸收膜(7)采用氟化鎂材料;吸光率大于99.8%。
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