[發(fā)明專利]一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 202010288319.4
• 申請(qǐng)日: 2020-04-13
• 公開（公告）號(hào): CN111364019A
• 公開（公告）日: 2020-07-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 宣榮衛(wèi);呂俊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 艾華（無錫）半導(dǎo)體科技有限公司
• 主分類號(hào): C23C16/44
• 分類號(hào): C23C16/44;C23C16/56;C23C14/22;C23C14/58;H01L21/67;B82Y30/00;B82Y40/00
• 代理公司: 連云港聯(lián)創(chuàng)專利代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 32330
• 代理人: 劉剛

1.一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)，包括真空腔室(4)，其特征在于：所述真空腔室(4)一端設(shè)置有供氣管(3)，且所述供氣管(3)與所述真空腔室(4)固定連接，所述供氣管(3)遠(yuǎn)離所述真空腔室(4)一端設(shè)置有真空泵(2)，且所述真空泵(2)與所述供氣管(3)固定連接，所述真空腔室(4)外側(cè)設(shè)置有激光窗口(5)，且所述激光窗口(5)與所述真空腔室(4)固定連接，所述真空腔室(4)右上方設(shè)置有操作面板(1)，且所述操作面板(1)與所述真空腔室(4)固定連接，所述真空腔室(4)內(nèi)部底端設(shè)置有加熱室(6)，且所述加熱室(6)與所述真空腔室(4)固定連接，所述加熱室(6)上表面設(shè)置有加熱臺(tái)面(7)，且所述加熱臺(tái)面(7)與所述加熱室(6)固定連接，所述加熱臺(tái)面(7)上表面設(shè)置有晶圓(9)，且所述晶圓(9)與所述加熱臺(tái)面(7)固定連接，所述真空腔室(4)內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有聚光鏡(8)，且所述聚光鏡(8)與所述真空腔室(4)固定連接。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述真空腔室(4)內(nèi)部真空度可時(shí)時(shí)調(diào)控，調(diào)控的范圍為零點(diǎn)一至一萬帕。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述真空腔室(4)的內(nèi)部設(shè)置有高純度惰性氣體或還原性氣體，所述惰性氣體為氮?dú)饣蛘邭鍤猓鲞€原性氣體為氫氣。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述供氣管(3)內(nèi)部設(shè)置前驅(qū)體，所述前驅(qū)體為一種或兩種或多種氣態(tài)化學(xué)品。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述驅(qū)體是兩種以上化學(xué)品時(shí)，可根據(jù)需要同時(shí)或交替通入所述真空腔室(4)的內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種圖形化外延生長(zhǎng)的設(shè)備結(jié)構(gòu)，其特征在于：所述激光窗口(5)設(shè)置在所述晶圓(9)和振鏡之間，所述激光窗口(5)的材料為高純石英或玻璃或石英晶體或氟化鈉晶體等，優(yōu)選石英玻璃。