[發明專利]投影機光機光學調試平臺在審
| 申請號: | 202010281310.0 | 申請日: | 2020-04-10 |
| 公開(公告)號: | CN111273514A | 公開(公告)日: | 2020-06-12 |
| 發明(設計)人: | 張長春 | 申請(專利權)人: | 中航國畫(上海)激光顯示科技有限公司 |
| 主分類號: | G03B43/00 | 分類號: | G03B43/00;G03B21/16 |
| 代理公司: | 上海世圓知識產權代理有限公司 31320 | 代理人: | 顧俊超 |
| 地址: | 200436 上海市*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 投影機 光學 調試 平臺 | ||
本發明公開投影機光機光學調試平臺,包含有,箱型底座,其由底座頂壁、底座底壁、底座前壁、底座后壁及底座側壁組成;光機支撐平臺,其形成于所述底座頂壁上,所述光機支撐平臺自所述底座頂壁的頂面始向上延伸,所述光機支撐平臺的頂面高于所述底座頂壁的頂面,當光機本體置于所述光機支撐平臺上,所述光機本體被整體墊高;所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁左板及頂壁右板,所述頂壁左板及所述頂壁右板上分別固定有光機散熱風扇,所述光機散熱風扇用于散熱所述光機本體。本發明的有益效果在于:利用光機支撐平臺,光機本體整體被抬高,方便進行光機本體的成像,亮度,色溫,焦距的測試與調節;設置光機風扇,提高對光機本體的散熱。
技術領域
本發明涉及投影機領域,特別地是,投影機光機光學調試平臺。
背景技術
目前在投影機生產過程中,對光機畫面畫質、亮度、色彩等要求較高。當光機本體從整機移出后,無法進行成像及亮度色溫的調節。原因在于,光機設計調試點在光機下方,或是被其他零件干涉,無法進行直接調試,需要人為托起后調試,且無法有效對光機進行散熱,費時費力并損傷元器件。
發明內容
本發明要解決的技術問題是現有技術中光機本體移出整機后無法直接調試的弊端,提供一種新型的投影機光機光學調試平臺。
為了實現這一目的,本發明的技術方案如下:投影機光機光學調試平臺,包含有,
箱型底座,其由底座頂壁、底座底壁、底座前壁、底座后壁及底座側壁組成,所述底座頂壁、所述底座底壁、所述底座前壁、所述底座后壁與底座側壁共同界定出底座內置空間;
光機支撐平臺,其形成于所述底座頂壁上,所述光機支撐平臺自所述底座頂壁的頂面始向上延伸,所述光機支撐平臺的頂面高于所述底座頂壁的頂面,當光機本體置于所述光機支撐平臺上,所述光機本體被整體墊高;
所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁左板及頂壁右板,所述頂壁左板及所述頂壁右板上分別固定有光機散熱風扇,所述光機散熱風扇用于散熱所述光機本體。
作為投影機光機光學調試平臺的優選方案,還包含有,平臺定位柱,所述平臺定位柱自所述光機支撐平臺的頂面始向上延伸,所述光機本體上形成有與所述平臺定位柱對應的光機定位孔,當所述光機本體置于所述光機支撐平臺上,所述平臺定位柱與所述光機定位孔相軸孔配合,以此將所述光機本體定位。
作為投影機光機光學調試平臺的優選方案,還包含有,平臺定位手柄,所述平臺定位手柄形成于所述光機支撐平臺的頂面上,所述平臺定位手柄的數量為兩個以上,沿所述光機本體外圍布置,所述平臺定位手柄在所述光機支撐平臺的頂面上水平轉動,當所述光機本體置于所述光機支撐平臺上,轉動所述平臺定位手柄,使得所述平臺定位手柄與所述光機本體相抵,以此將所述光機本體定位。
作為投影機光機光學調試平臺的優選方案,所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁后板,所述光機支撐平臺與所述頂壁后板相左右相鄰,所述頂壁后板為鏡頭支撐架,所述頂壁后板與所述底座頂壁以可拆卸的方式連接,所述頂壁后板用于承載鏡頭本體。
作為投影機光機光學調試平臺的優選方案,所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁前板,所述頂壁前板作為主板固定板,所述頂壁前板用于將主板本體立式固定。
作為投影機光機光學調試平臺的優選方案,所述頂壁前板的后面設置有主板散熱風扇。
作為投影機光機光學調試平臺的優選方案,所述底座底壁、所述底座前壁、所述底座后壁與所述底座側壁一體設置,所述底座頂壁的后緣與所述底座后壁的頂緣通過合頁相鉸接。
與現有技術相比,本發明的有益效果至少在于:利用光機支撐平臺,光機本體整體被抬高,方便進行光機本體的成像,亮度,色溫,焦距的測試與調節;設置光機風扇,提高對光機本體的散熱。
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