[發明專利]投影機光機光學調試平臺

在審

• 申請號: 202010281310.0
• 申請日: 2020-04-10
• 公開（公告）號: CN111273514A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發明（設計）人: 張長春
• 申請（專利權）人: 中航國畫（上海）激光顯示科技有限公司
• 主分類號: G03B43/00
• 分類號: G03B43/00;G03B21/16
• 代理公司: 上海世圓知識產權代理有限公司 31320
• 代理人: 顧俊超

1.投影機光機光學調試平臺，其特征在于，包含有，

箱型底座，其由底座頂壁、底座底壁、底座前壁、底座后壁及底座側壁組成，所述底座頂壁、所述底座底壁、所述底座前壁、所述底座后壁與底座側壁共同界定出底座內置空間；

光機支撐平臺，其形成于所述底座頂壁上，所述光機支撐平臺自所述底座頂壁的頂面始向上延伸，所述光機支撐平臺的頂面高于所述底座頂壁的頂面，當光機本體置于所述光機支撐平臺上，所述光機本體被整體墊高；

所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁左板及頂壁右板，所述頂壁左板及所述頂壁右板上分別固定有光機散熱風扇，所述光機散熱風扇用于散熱所述光機本體。

2.根據權利要求1所述的投影機光機光學調試平臺，其特征在于，還包含有，平臺定位柱，所述平臺定位柱自所述光機支撐平臺的頂面始向上延伸，所述光機本體上形成有與所述平臺定位柱對應的光機定位孔，當所述光機本體置于所述光機支撐平臺上，所述平臺定位柱與所述光機定位孔相軸孔配合，以此將所述光機本體定位。

3.根據權利要求1所述的投影機光機光學調試平臺，其特征在于，還包含有，平臺定位手柄，所述平臺定位手柄形成于所述光機支撐平臺的頂面上，所述平臺定位手柄的數量為兩個以上，沿所述光機本體外圍布置，所述平臺定位手柄在所述光機支撐平臺的頂面上水平轉動，當所述光機本體置于所述光機支撐平臺上，轉動所述平臺定位手柄，使得所述平臺定位手柄與所述光機本體相抵，以此將所述光機本體定位。

4.根據權利要求1所述的投影機光機光學調試平臺，其特征在于，所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁后板，所述光機支撐平臺與所述頂壁后板相左右相鄰，所述頂壁后板為鏡頭支撐架，所述頂壁后板與所述底座頂壁以可拆卸的方式連接，所述頂壁后板用于承載鏡頭本體。

5.根據權利要求1所述的投影機光機光學調試平臺，其特征在于，所述底座頂壁的頂面上豎立有頂壁前板，所述頂壁前板作為主板固定板，所述頂壁前板用于將主板本體立式固定。

6.根據權利要求5所述的投影機光機光學調試平臺，其特征在于，所述頂壁前板的后面設置有主板散熱風扇。

7.根據權利要求1所述的投影機光機光學調試平臺，其特征在于，所述底座底壁、所述底座前壁、所述底座后壁與所述底座側壁一體設置，所述底座頂壁的后緣與所述底座后壁的頂緣通過合頁相鉸接。