[發(fā)明專利]改善外延片滑片的裝置及方法

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010260219.0
• 申請日: 2020-04-03
• 公開（公告）號: CN111477566A
• 公開（公告）日: 2020-07-31
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 魏桂忠;陳秉克;薛宏偉;袁肇耿;仇根忠;任麗翠;任永升;霍曉陽
• 申請（專利權(quán)）人: 河北普興電子科技股份有限公司
• 主分類號: H01L21/67
• 分類號: H01L21/67;H01L21/687;C30B25/12;C30B29/06
• 代理公司: 石家莊國為知識產(chǎn)權(quán)事務(wù)所 13120
• 代理人: 張貴勤

1.改善外延片滑片的裝置，其特征在于，包括：

基座，上端面設(shè)有載片槽，所述基座上方設(shè)置有機(jī)械手盤，所述機(jī)械手盤上設(shè)置有用于負(fù)壓吸附外延片的吸氣通路，所述機(jī)械手盤上還設(shè)置有用于向所述機(jī)械手盤內(nèi)充入氣體的充氣通路；

外延片在所述充氣通路充入的氣體壓力作用下落入所述載片槽內(nèi)。

2.如權(quán)利要求1所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，還包括：

三通閥，分別設(shè)有出氣端、第一進(jìn)氣端和第二進(jìn)氣端，所述出氣端與所述機(jī)械手盤連通，所述第一進(jìn)氣端與所述出氣端形成所述吸氣通路，所述第二進(jìn)氣端與所述出氣端形成所述充氣通路。

3.如權(quán)利要求2所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，所述第一進(jìn)氣端的管路上安裝有文丘里真空泵。

4.如權(quán)利要求3所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，所述第一進(jìn)氣端的管路上和所述第二進(jìn)氣端的管路上分別安裝有流量調(diào)節(jié)閥。

5.如權(quán)利要求2所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，所述第一進(jìn)氣端的管路上安裝有氣閉式氣動(dòng)閥，所述第二進(jìn)氣端的管路上安裝有氣開式氣動(dòng)閥。

6.如權(quán)利要求5所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，所述氣閉式氣動(dòng)閥與所述氣開式氣動(dòng)閥通過同一氣源控制。

7.如權(quán)利要求1所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，還包括：

壓力傳感器，安裝在所述機(jī)械手盤的管路上。

8.如權(quán)利要求1所述的改善外延片滑片的裝置，其特征在于，所述充氣通路內(nèi)充有氮?dú)狻?/p>

9.改善外延片滑片的方法，其特征在于，包括以下步驟：

S1：在機(jī)械手盤內(nèi)形成負(fù)壓，以吸取外延片；

S2：機(jī)械手盤帶動(dòng)外延片移動(dòng)到基座的載片槽的上方；

S3：向機(jī)械手盤內(nèi)通入氣體，以將外延片推動(dòng)至基座的載片槽內(nèi)。

10.如權(quán)利要求9所述的改善外延片滑片的方法，其特征在于，在所述步驟3)之前切斷機(jī)械手盤內(nèi)的負(fù)壓。