[發明專利]通信裝置、介質波導濾波器及其電容耦合調節方法

在審

• 申請號: 202010258001.1
• 申請日: 2020-04-03
• 公開（公告）號: CN111403863A
• 公開（公告）日: 2020-07-10
• 發明（設計）人: 歐陽洲;黃友勝;丁海
• 申請（專利權）人: 京信射頻技術（廣州）有限公司;京信通信技術（廣州）有限公司
• 主分類號: H01P1/20
• 分類號: H01P1/20;H01P11/00
• 代理公司: 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224
• 代理人: 鄭彤

1.一種介質波導濾波器，其特征在于，所述介質波導濾波器包括：

介質塊，所述介質塊包括相對設置的第一表面與第二表面，所述第一表面上設有盲槽，所述盲槽的底壁設有容性耦合通孔，所述容性耦合通孔從所述盲槽的底壁延伸到所述第二表面；及

金屬層，所述金屬層設于所述介質塊的外表面、所述盲槽的槽壁及所述容性耦合通孔的孔壁；所述容性耦合通孔孔壁的金屬層上設有隔斷環，或者，所述第二表面的金屬層上設有繞設于所述容性耦合通孔外圍的隔斷環。

2.根據權利要求1所述的介質波導濾波器，其特征在于，所述容性耦合通孔的直徑為1mm～3mm；所述隔斷環的環寬為0.5mm～1mm。

3.根據權利要求2所述的介質波導濾波器，其特征在于，所述容性耦合通孔的直徑為2mm；所述隔斷環的環寬為0.5mm～0.7mm。

4.根據權利要求1所述的介質波導濾波器，其特征在于，所述第一表面上還設有間隔的兩個頻率孔，所述盲槽與所述容性耦合通孔位于兩個所述頻率孔之間，所述頻率孔為盲孔，所述金屬層還設于所述頻率孔的孔壁上。

5.根據權利要求4所述的介質波導濾波器，其特征在于，所述盲槽的深度不大于所述頻率孔的深度。

6.根據權利要求1所述的介質波導濾波器，其特征在于，所述盲槽的槽口形狀為方形、多邊形、圓形、橢圓形或腰形；或者，所述盲槽為錐形槽或柱形槽。

7.根據權利要求1至6任意一項所述的介質波導濾波器，其特征在于，所述介質塊為陶瓷介質塊；所述金屬層為鍍設、噴涂或粘設于所述介質塊上的金屬銀層、金屬銅層、金屬鉑層或金屬金層。

8.一種通信裝置，其特征在于，包括如權利要求1至7任意一項所述的介質波導濾波器。

9.一種如權利要求1至7任意一項所述的介質波導濾波器的電容耦合調節方法，其特征在于，包括如下步驟：當需要調整電容耦合量時，通過調整所述盲槽的深度，和/或調整所述盲槽的長度，和/或調整所述盲槽的寬度來進行相應調整。

10.根據權利要9所述的介質波導濾波器的電容耦合調節方法，其特征在于，所述盲槽的槽口為圓形口，所述容性耦合通孔的孔口位于所述盲槽底壁的中部部位，當需要增大容性耦合量時，則相應增大所述盲槽的深度，和/或增大所述盲槽的槽口直徑；當需要減小容性耦合量時，則相應減小所述盲槽的深度，和/或減小所述盲槽的槽口直徑。

11.根據權利要求9所述的介質波導濾波器的電容耦合調節方法，其特征在于，所述盲槽的槽口為腰形口，所述腰形口的長邊方向與兩個所述頻率孔中心的連線方向一致，所述容性耦合通孔的孔口位于所述盲槽底壁的中部部位，當需要增大容性耦合量時，則相應增大所述盲槽的深度和/或增大所述盲槽的槽口長度，和/或增大所述盲槽的槽口的寬度；當需要減小容性耦合量時，則相應減小所述盲槽的深度，和/或減小所述盲槽的槽口長度，和/或減小所述盲槽的槽口的寬度。

12.根據權利要求9所述的介質波導濾波器的電容耦合調節方法，其特征在于，所述盲槽的槽口為腰形口，所述腰形口的長邊方向與兩個所述頻率孔中心的連線方向相垂直，所述容性耦合通孔的孔口位于所述盲槽底壁的中部部位，當需要增大容性耦合量時，則相應增大所述盲槽的深度，和/或減小所述盲槽的槽口長度，和/或減小所述盲槽的槽口的寬度；當需要減小容性耦合量時，則相應減小所述盲槽的深度，和/或增大所述盲槽的槽口長度，和/或增大所述盲槽的槽口的寬度。