[發明專利]阻抗匹配裝置、異常診斷方法以及存儲介質在審
| 申請號： | 202010253669.7 | 申請日： | 2020-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN111800931A | 公開（公告）日： | 2020-10-20 |
| 發明（設計）人： | 加藤秀生 | 申請（專利權）人： | 東京毅力科創株式會社 |
| 主分類號： | H05H1/46 | 分類號： | H05H1/46;H01J37/32 |
| 代理公司： | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人： | 劉新宇 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 阻抗匹配 裝置 異常 診斷 方法 以及 存儲 介質 | ||
本發明提供一種阻抗匹配裝置、異常診斷方法以及存儲介質，阻抗匹配裝置對構成阻抗匹配裝置的各部件的異常進行自我診斷，具有：可變電容元件，其連接在高頻電源與負載之間；第一檢測器，其檢測用于判斷高頻電源與負載之間的阻抗匹配的指標值及表示從高頻電源輸入的高頻的狀態的第一狀態值；第二檢測器，其檢測表示向負載輸出的高頻的狀態的第二狀態值；調整部，其逐步調整可變電容元件的電容值，以使由第一檢測器檢測出的指標值落在表示阻抗匹配完成的目標范圍內；以及診斷部，其基于由調整部調整后的電容值、由第一檢測器檢測出的第一狀態值以及由第二檢測器檢測出的第二狀態值來對可變電容元件、第一檢測器或第二檢測器的異常進行診斷。
技術領域
本公開涉及一種阻抗匹配裝置、異常診斷方法以及存儲介質。
背景技術
以往，已知一種使用等離子體對晶圓等被處理體進行等離子體處理的等離子體處理裝置。這種等離子體處理裝置例如在能夠構成真空空間的處理容器內具有兼具電極的功能的、保持被處理體的載置臺。等離子體處理裝置向載置臺施加來自高頻電源的規定的高頻，來對載置于載置臺的被處理體進行等離子體處理。在高頻電源與作為負載的處理容器之間配置有用于進行高頻電源與處理容器之間的阻抗匹配的阻抗匹配裝置。阻抗匹配裝置例如具有連接在高頻電源與負載之間的可變電容元件，并通過調整可變電容元件的電容值來進行阻抗匹配。
專利文獻1：日本特開2007-295447號公報
發明內容
本公開提供一種能夠對構成阻抗匹配裝置的各部件的異常進行自我診斷的技術。
本公開的一個方式所涉及的阻抗匹配裝置具備：可變電容元件，其連接在高頻電源與負載之間；第一檢測器，其檢測用于判斷所述高頻電源與所述負載之間的阻抗匹配的指標值以及表示從所述高頻電源輸入的高頻的狀態的第一狀態值；第二檢測器，其檢測表示向所述負載輸出的高頻的狀態的第二狀態值；調整部，其逐步地調整所述可變電容元件的電容值，以使得由所述第一檢測器檢測出的指標值落在表示所述阻抗匹配完成的目標范圍內；以及診斷部，其基于由所述調整部調整后的電容值、由所述第一檢測器檢測出的第一狀態值以及由所述第二檢測器檢測出的第二狀態值，來對所述可變電容元件、所述第一檢測器或所述第二檢測器的異常進行診斷。
根據本公開，起到能夠對構成阻抗匹配裝置的各部件的異常進行自我診斷的效果。
附圖說明
圖1是示出第一實施方式所涉及的等離子體處理裝置的結構的概要截面圖。
圖2是示出第一實施方式所涉及的阻抗匹配裝置的結構的一例的圖。
圖3是示出第一實施方式所涉及的阻抗匹配裝置的處理動作的一例的流程圖。
圖4是示出第二實施方式所涉及的阻抗匹配裝置的結構的一例的圖。
圖5是示出第二實施方式所涉及的阻抗匹配裝置的處理動作的一例的流程圖。
圖6是示出第三實施方式所涉及的阻抗匹配裝置的結構的一例的圖。
圖7是示出第三實施方式所涉及的阻抗匹配裝置的處理動作的一例的流程圖。
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