[發(fā)明專利]用于電子加速器的雙窗引出窗裝置及輻照加工裝置

在審

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• 申請日: 2020-03-31
• 公開（公告）號: CN111465164A
• 公開（公告）日: 2020-07-28
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 張昌有;希爾蓋·法捷耶夫;沃若別夫·迪尼斯;比特·卡恰洛夫;唐建科
• 申請（專利權(quán)）人: 山西壹泰科電工設(shè)備有限公司
• 主分類號: H05H7/00
• 分類號: H05H7/00;G21K5/00
• 代理公司: 北京華進(jìn)京聯(lián)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11606
• 代理人: 趙永輝

本發(fā)明涉及一種用于電子加速器的雙窗引出窗裝置及輻照加工裝置，該雙窗引出窗裝置包括：掃描引出窗，掃描引出窗沿平行于電子束掃描的方向上至少設(shè)置有兩個引出窗。本申請?zhí)峁┑纳鲜龇桨福捎趻呙枰龃安捎秒p窗結(jié)構(gòu)，當(dāng)帶電粒子束通過掃描后就會改變其運行軌跡，使得電子束流以環(huán)形運行的方式往返于兩個引出窗，從而減小了電子束流打在一個引出窗上熱量集中，進(jìn)而提高了鈦箔的使用壽命。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及輻射加工技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種用于電子加速器的雙窗引出窗裝置及輻照加工裝置。

背景技術(shù)

近些年來，使用電子輻射處理各種產(chǎn)品成為越來越普遍的方法。其基本原理是，在高真空場中利用磁場力控制電子、利用電場力加速電子，從而使電子達(dá)到非常高的能量。將高能電子輻照到被輻照物品上，以改變物品的性質(zhì)，從而實現(xiàn)例如對聚烯烴材料改性、藥品的消毒滅菌、對食品的保鮮及滅菌的目的，以及工業(yè)領(lǐng)域的表面處理和環(huán)保領(lǐng)域的污水處理等等。

隨著輻射加工高效率的要求，低能量的電子加速器在工作時，要求束流大于100mA以上，由于電子束流增大后，會提高鈦箔的溫度，進(jìn)而會降低鈦箔的使用壽命。

發(fā)明內(nèi)容

基于此，有必要針對現(xiàn)有電子加速器在束流大于100mA以上工作時，會降低鈦箔的使用壽命的問題，提供一種用于電子加速器的雙窗引出窗裝置及輻照加工裝置。

本發(fā)明提供了一種用于電子加速器的雙窗引出窗裝置，包括：

掃描引出窗，所述掃描引出窗沿平行于電子束掃描的方向上至少設(shè)置有兩個引出窗。

上述用于電子加速器的雙窗引出窗裝置，由于掃描引出窗采用雙窗結(jié)構(gòu)，當(dāng)帶電粒子束通過掃描后就會改變其運行軌跡，使得電子束流以環(huán)形運行的方式往返于兩個引出窗，從而減小了電子束流打在一個引出窗上熱量集中，進(jìn)而提高了鈦箔的使用壽命。

在其中一個實施例中，所述掃描引出窗為方形法蘭，所述引出窗沿所述法蘭長度方向平行間隔設(shè)置。

在其中一個實施例中，還包括散熱裝置，每個所述引出窗上均連接一個所述散熱裝置。

在其中一個實施例中，所述散熱裝置包括風(fēng)嘴和吹風(fēng)筒，所述吹風(fēng)筒的出風(fēng)口通過所述風(fēng)嘴與所述引出窗連通。

在其中一個實施例中，還包括冷卻裝置，所述冷卻裝置設(shè)置在所述法蘭上。

在其中一個實施例中，所述冷卻裝置包括冷卻水循環(huán)系統(tǒng)。

在其中一個實施例中，所述冷卻裝置包括冷卻管，所述冷卻管沿所述法蘭的周向設(shè)置。

在其中一個實施例中，所述掃描引出窗包括窗體，所述窗體由微米級鈦箔制成。

在其中一個實施例中，所述掃描引出窗還包括窗框，所述窗體安裝于所述窗框。

一種輻照加工裝置，包括盒體、掃描磁鐵線圈以及如本申請實施例描述中任一項所述的用于電子加速器的雙窗引出窗裝置，所述掃描磁鐵線圈設(shè)置于所述盒體的遠(yuǎn)離所述掃描引出窗的一端；進(jìn)入所述盒體的電子束在所述掃描磁鐵線圈的作用下呈面狀向下自所述掃描引出窗引出。

在其中一個實施例中，所述掃描磁鐵線圈包括高頻掃描磁鐵線圈和低頻掃描磁鐵線圈，所述高頻掃描磁鐵線圈較所述低頻掃描磁鐵線圈遠(yuǎn)離所述掃描引出窗。

在其中一個實施例中，還包括加速器和磁體線圈，所述磁體線圈設(shè)置于所述加速器的出口處，用于將由所述加速器的出口射出的所述帶電粒子束通過所述掃描磁鐵線圈后展開。

附圖說明

圖1為本發(fā)明一實施例中輻照加工裝置的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2為圖1中的側(cè)視圖；

圖3為圖1中的掃描引出窗的示意圖；