[發明專利]一種光刻膠涂覆裝置及方法

在審

• 申請號: 202010230828.1
• 申請日: 2020-03-27
• 公開（公告）號: CN113448172A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 吳明鋒
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

本發明公開了一種光刻膠涂覆裝置及方法，其中，光刻膠涂覆裝置包括：液體氣化模塊，用于將液態光刻膠轉換為氣態光刻膠，并輸送至光刻膠涂覆模塊；所述光刻膠涂覆模塊包括：蒸汽涂覆單元、蓋板和承載臺；所述蒸汽涂覆單元包括蒸汽通道和蒸汽噴孔；所述蒸汽噴孔穿過所述蓋板設置；所述承載臺用于裝載基板；所述蓋板設置于所述承載臺靠近所述基板的一側；所述蒸汽涂覆單元通過所述蒸汽通道獲取所述氣態光刻膠，并通過所述蒸汽噴孔向所述承載臺上的基板的待涂覆面輸送氣態光刻膠并形成光刻膠涂層。本發明提供了一種光刻膠涂覆裝置及方法，以解決光刻膠涂覆的厚度不均的問題。

技術領域

本發明涉及半導體光刻技術領域，尤其涉及一種光刻膠涂覆裝置及方法。

背景技術

光刻膠(Photoresist，PR)，又稱光阻，在顯示產品的制造過程中，經常需要采用涂布機在基板上涂覆光刻膠。

相關技術中，光刻膠涂布機包括轉盤和噴嘴，轉盤具有承載面，在基板上涂覆光刻膠時，將基板固定設置在轉盤的承載面上，然后采用噴嘴將一定量的光刻膠旋涂在基板上，最終在基板上形成光刻膠層。

具體的，圖1是現有技術中的光刻膠涂布機的結構示意圖，現有技術中，如圖1所示，光刻膠涂布機包括轉盤12’和噴嘴11’，轉盤12’具有承載面，承載面上用于放置待涂覆光刻膠13’的基板，在基板上涂覆光刻膠13’時，將基板固定設置在轉盤12’的承載面上，然后采用噴嘴11’將一定量的光刻膠13’噴涂在基板的待涂覆面的中央區域，之后控制轉盤12’旋轉，帶動基板繞基板的中心旋轉，在基板旋轉的過程中，位于待涂覆面的中央區域的光刻膠13’在離心力的作用下向待涂覆面的周邊區域擴散，最終在待涂覆面上形成光刻膠層。在此基礎上，可移動噴嘴11’進行光刻膠13’的涂覆，以加快光刻膠13’的涂覆速度，如圖2和圖3所示，圖2是現有技術中的另一種光刻膠涂布機的結構示意圖，圖3是現有技術中的另一種光刻膠涂布機的結構示意圖，在轉盤12’的徑向方向上，移動噴嘴11’加快光刻膠13’的涂覆進程。

但是因為光刻膠的粘度較大，導致光刻膠在基板上的擴散阻力較大，因此將導致基板的中心位置和邊緣位置的光刻膠的厚度不同，某些位置容易出現堆膠或者難以覆蓋等問題，因此光刻膠涂覆的難度較大。

發明內容

本發明實施例提供了一種光刻膠涂覆裝置及方法，以解決光刻膠涂覆的厚度不均的問題。

第一方面，本發明實施例提供了一種光刻膠涂覆裝置，包括：液體氣化模塊，用于將液態光刻膠轉換為氣態光刻膠，并輸送至光刻膠涂覆模塊；

所述光刻膠涂覆模塊包括：蒸汽涂覆單元、蓋板和承載臺；

所述蒸汽涂覆單元包括蒸汽通道和蒸汽噴孔；所述蒸汽噴孔穿過所述蓋板設置；所述承載臺用于裝載基板；所述蓋板設置于所述承載臺靠近所述基板的一側；

所述蒸汽涂覆單元通過所述蒸汽通道獲取所述氣態光刻膠，并通過所述蒸汽噴孔向所述承載臺上的基板的待涂覆面輸送氣態光刻膠并形成光刻膠涂層。

第二方面，本發明實施例還提供了一種光刻膠涂覆方法，適用于本發明任意實施例提供的光刻膠涂覆裝置，包括：

將基板裝載在所述承載臺上；

啟動所述液體氣化模塊，并通過所述蒸汽涂覆單元向所述基板的待涂覆面輸送氣態光刻膠并形成光刻膠涂層。