[發明專利]一種光刻膠涂覆裝置及方法

在審

• 申請號: 202010230828.1
• 申請日: 2020-03-27
• 公開（公告）號: CN113448172A
• 公開（公告）日: 2021-09-28
• 發明（設計）人: 吳明鋒
• 申請（專利權）人: 長鑫存儲技術有限公司
• 主分類號: G03F7/16
• 分類號: G03F7/16
• 代理公司: 上海晨皓知識產權代理事務所(普通合伙) 31260
• 代理人: 成麗杰

1.一種光刻膠涂覆裝置，其特征在于，包括：

液體氣化模塊，用于將液態光刻膠轉換為氣態光刻膠，并輸送至光刻膠涂覆模塊；

所述光刻膠涂覆模塊包括：蒸汽涂覆單元、蓋板和承載臺；

所述蒸汽涂覆單元包括蒸汽通道和蒸汽噴孔；所述蒸汽噴孔穿過所述蓋板設置；所述承載臺用于裝載基板；所述蓋板設置于所述承載臺靠近所述基板的一側；

所述蒸汽涂覆單元通過所述蒸汽通道獲取所述氣態光刻膠，并通過所述蒸汽噴孔向所述承載臺上的基板的待涂覆面輸送氣態光刻膠并形成光刻膠涂層。

2.根據權利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，所述液體氣化模塊包括：液體氣化腔、液體通道、加壓管道以及蒸汽輸出端；

所述液體通道用于向所述液體氣化腔中灌入液態光刻膠；所述加壓管道用于向所述液體氣化腔內注入加壓氣體以增大所述液體氣化腔內的壓強，使得所述液態光刻膠氣化；所述蒸汽輸出端用于輸出所述氣態光刻膠至所述蒸汽涂覆單元。

3.根據權利要求2所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，所述加壓氣體為惰性氣體或純凈壓縮空氣。

4.根據權利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，

所述蒸汽噴孔靠近所述基板的一端的徑向尺寸范圍為1mm～5mm。

5.根據權利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，在由所述蓋板指向所述基板的方向上，所述蒸汽噴孔的徑向尺寸逐漸增大。

6.根據權利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，所述蒸汽噴孔的形狀為圓錐狀或圓柱狀。

7.根據權利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，所述蒸汽噴孔在所述承載臺的正投影位于所述承載臺的中心位置。

8.根據權利要求1所述的光刻膠涂覆裝置，其特征在于，還包括：設備空腔和抽氣單元；

所述設備空腔由側壁、底板以及所述蓋板包封形成；所述承載臺位于所述設備空腔內；

所述抽氣單元用于對所述設備空腔進行抽氣。

9.一種光刻膠涂覆方法，其特征在于，適用于上述權利要求1-8中任一項所述的光刻膠涂覆裝置，包括：

將基板裝載在所述承載臺上；

啟動所述液體氣化模塊，并通過所述蒸汽涂覆單元向所述基板的待涂覆面輸送氣態光刻膠并形成光刻膠涂層。

10.根據權利要求9所述的光刻膠涂覆方法，其特征在于，在通過所述蒸汽涂覆單元向所述基板的待涂覆面輸送氣態光刻膠并形成光刻膠涂層時，還包括：

以固定角速度旋轉所述承載臺，以使所述光刻膠涂層厚度均勻。