[發明專利]屏障層的制備方法和包含這種屏障層的載體主體

在審

• 申請號: 202010230445.4
• 申請日: 2014-07-24
• 公開（公告）號: CN111499897A
• 公開（公告）日: 2020-08-07
• 發明（設計）人: 弗蘭克·福爾科默;克勞斯-迪特爾·鮑爾;于爾根·鮑爾;馬托·克內茲;基思·格雷戈爾奇克
• 申請（專利權）人: 歐司朗OLED股份有限公司;CIC納米技術加強公司
• 主分類號: C08J5/18
• 分類號: C08J5/18;C08J7/12
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 彭鯤鵬;韓宏星

1.一種載體主體，包含：

-至少一種聚合物的聚合物膜，和

-形成在所述聚合物膜中的屏障層，

其中所述屏障層包含不同子單元之間的多個橋，所述子單元包含所述至少一種聚合物或聚合物鏈的單體或低聚物，

其中所述橋包含共價結合至兩個所述子單元的至少一個金屬原子，以及

-屏障界面，其中所述屏障界面沒有陶瓷、氧化物、氮化物和氧氮化物的封閉層。

2.根據權利要求1所述的載體主體，還包含附加功能層。

3.根據權利要求2所述的載體主體，其中所述附加功能層直接施加到所述聚合物膜上。

4.根據權利要求2所述的載體主體，其中所述附加功能層包括以下層中的至少一者：粘合改善層、漆層、著色層、金屬層、另外的聚合物層。

5.根據權利要求1所述的載體主體，其中所述載體主體是機械柔性的。

6.根據權利要求1所述的載體主體，其中所述載體主體能夠在室溫下彎曲至少十次而不損壞所述載體主體、所述聚合物膜和所述屏障層。

7.根據權利要求1所述的載體主體，其中所述聚合物膜的全部自由邊界表面和/或全部自由表面設置有所述屏障層。

8.一種有機發光二極管，包含：

-根據權利要求1所述的載體主體，以及

-包含至少一個用于產生可見輻射的有源區的有機層序列。

9.一種用于在聚合物膜中制備屏障層的方法，包括以下步驟：

A)提供包含由至少一種聚合物制備的所述聚合物膜的載體主體，所述聚合物膜形成所述載體主體的屏障界面，

B)干燥所述屏障界面，

C)使所述屏障界面暴露于一種反應物氣體，或暴露于多種彼此之間不發生化學反應的反應物氣體，使得所述至少一種反應物氣體與所述至少一種聚合物至少在所述聚合物膜內部在至少一種化學反應中進行化學反應，從而形成所述屏障層，使得化學反應不在所述屏障界面處發生，以及

D)除去所述至少一種化學反應的至少一種產物氣體。

10.根據權利要求9所述的方法，

其中步驟C)在至多100毫巴的低的第一總壓力下進行，

其中在步驟D)中至少暫時達到至多1毫巴的更低的第二總壓力，

其中步驟C)和D)在反應器中直接彼此相繼進行并且直接重復至少兩次，

其中在步驟C)中，使所述屏障界面暴露于具有所述第一壓力的反應物氣體至少1秒以使所述反應物氣體能夠擴散進入所述聚合物膜，以及

其中在步驟D)中施加所述第二壓力至少2秒以使所述至少一種產物氣體能夠擴散出所述聚合物膜。

11.根據權利要求9所述的方法，

其中至少方法步驟C)和D)在至少500毫巴的總壓力下進行，

其中步驟C)在至多50毫巴的所述反應物氣體的低的第一分壓力下進行，

其中在步驟D)中至少暫時達到至多1毫巴的所述產物氣體的更低的第二分壓力，

其中步驟C)和D)彼此直接相繼進行并且直接重復至少四次，以及

其中在全部方法步驟C)中的總暴露時間總共為至少0.5秒。

12.根據權利要求9所述的方法，其中方法步驟C)和D)重復至少20次。

13.根據權利要求9所述的方法，其中使用恰好一種反應物氣體，所述反應物氣體意圖僅與所述聚合物反應，并且

其中在不使用H₂O的情況下產生所述屏障層。