[發明專利]一種高穩定性硅油基拋光液在審
| 申請號: | 202010221256.0 | 申請日: | 2020-03-26 |
| 公開(公告)號: | CN111218217A | 公開(公告)日: | 2020-06-02 |
| 發明(設計)人: | 不公告發明人 | 申請(專利權)人: | 大連圣多教育咨詢有限公司 |
| 主分類號: | C09G1/02 | 分類號: | C09G1/02 |
| 代理公司: | 大連創達專利代理事務所(普通合伙) 21237 | 代理人: | 劉濤 |
| 地址: | 116011 遼寧省大*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 穩定性 硅油 拋光 | ||
本發明涉及一種高穩定性硅油基拋光液,屬于拋光領域。一種高穩定性硅油基拋光液,其特征是,所述拋光液由磁流變液和磨料組成,所述磁流變液按質量百分比,由下述組分組成:硅油20~75%,觸變劑3~8%,抗氧化劑0~2%,潤滑劑0~3%,羰基鐵粉40~70%,所述磨料與磁流變液的比例為:磨料與羰基鐵粉的質量比為1~2:10。本發明提供一種拋光液,該拋光劑由磁流變液基液和磨料組成,所述磁流變液所用觸變劑由本發明所述方法提供,利用本發明所述方法制備所得的SiO2納米粒子觸變劑以核殼結構的磁性SiO2納米粒子為主要原料,觸變劑具有一定的磁性,且由于磁性內核較小,相應的磁性較弱。
技術領域
本發明涉及一種高穩定性硅油基拋光液,屬于拋光領域。
背景技術
隨著各行各業的飛速發展,芯片加工、精密器件加工、異形件加工等對光滑表面的要求越來越高,獲得光滑表面的主要方式為拋光,目前廣泛使用拋光方法包括機械拋光、化學拋光、化學機械拋光等。其中一部分拋光僅適用于平面的平坦化拋光,而不適用于曲面工件的拋光。而可用于曲面的拋光方式也各有其問題,如化學拋光所用液體多為腐蝕性液體,對設備具有一定的損壞等。
磁流變液是一類新型的人工智能材料,該類材料的流變特性在磁場左右下能夠發生可控、可逆和連續的快速轉變,可廣泛應用于土木工程、機械加工、汽車工程、航天工程等諸多領域。磁流變液是由磁性粒子分散于液體基質中形成的一種懸浮體系。磁流變液在外在磁場的作用下,其內的磁性粒子排成長鏈,使液體在瞬間即轉變為具有一定屈服強度的固體,當磁場撤銷后,磁流變液后恢復為液體。
磁流變液懸浮體系中的懸浮相(磁性粒子)的粒徑較大、且密度較高,一般密度為介質的5倍以上,因此,在懸浮體系中,懸浮粒子易發生沉降、團聚和變質的現象。為解決上述問題,現有技術中提供了多種方法,其中一類是針對磁性粒子本身的加工,如將粒子負載于納米片上以減小整體磁性粒子的密度;或將磁性粒子做成空心結構以降低其密度,達到抗沉降的效果。另一類方法,是在整個懸浮體系中加入潤濕劑、觸變劑等外加制劑防止磁性粒子沉降和團聚,其中,潤濕劑通過增加粒子間的空間位阻以防止粒子的團聚和絮凝,這類材料雖然能夠防止粒子的絮凝,但是抗沉降效果較弱。
發明內容
本發明的目的是提供一種高穩定性硅油基拋光液,所述拋光劑由磁流變液和磨料組成,并同時提供一種SiO2納米粒子觸變劑的制備方法,利用該方法制得的SiO2納米粒子觸變劑,可以有效改善磁流變液中磁性粒子的沉降問題,同時不妨礙磁性粒子的成鏈。
一種高穩定性硅油基拋光液,所述拋光液由磁流變液和磨料組成,所述磁流變液按質量百分比,由下述組分組成:硅油20~75%,觸變劑3~8%,抗氧化劑0~2%,潤滑劑0~3%,羰基鐵粉40~70%,
其中,觸變劑按下述方法制得,包括下述工藝步驟:
S1,將磁性SiO2納米粒子與芐基三氯硅烷按質量比1:1~5均勻分散于甲苯中, 50~90℃反應1~3d,分離固體,洗滌,干燥,得到氯芐基接枝的SiO2納米粒子;
S2,將N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷加入水中,于pH=10~11下進行水解,得水解物溶液,其中,N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷與水的質量比為1:5~20;將磁性SiO2納米粒子按1g:50~200mL均勻分散于水中,得分散液;將水解物溶液與分散液混合后80~100℃加熱回流2~24h,分離,干燥,得到氨基改性SiO2納米粒子,其中,磁性SiO2納米粒子與N-(2-氨乙基)-3-氨丙基甲基二乙氧基硅烷的質量比為1~10:1;
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