[發明專利]光學裝置、曝光裝置以及物品制造方法

有效

• 申請號: 202010216319.3
• 申請日: 2020-03-25
• 公開（公告）號: CN111736298B
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發明（設計）人: 辻穣
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B7/182
• 分類號: G02B7/182;G02B7/00;G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

1.一種光學裝置，其特征在于，具備：

光學零件；

支撐機構，具有支撐所述光學零件的支撐部及限制所述光學零件在第1方向上的位置的位置限制部，所述第1方向是與所述光學零件的光軸平行的方向；以及

操作機構，用于對所述光學零件在與所述第1方向不同的第2方向上施加力，操作所述光學零件，

所述操作機構包括：接觸部，與所述光學零件接觸；操作部，使所述接觸部在所述第2方向上移動；以及連結部，連結所述接觸部和所述操作部，所述連結部構成為能夠關于所述第1方向使所述操作部和所述接觸部相對地移動，

為了關于所述第1方向使所述操作部相對于所述接觸部相對地移動而所需的力小于在所述光學零件與所述接觸部之間作用的靜止摩擦阻力。

2.根據權利要求1所述的光學裝置，其特征在于，

還具備變更機構，該變更機構變更所述位置限制部在所述第1方向上的位置。

3.根據權利要求1所述的光學裝置，其特征在于，

所述連結部包括彈性部，該彈性部能夠關于所述第1方向使所述操作部和所述接觸部相對地移動。

4.根據權利要求1所述的光學裝置，其特征在于，

所述連結部包括線性滑軌，該線性滑軌能夠關于所述第1方向使所述操作部和所述接觸部相對地移動。

5.根據權利要求1所述的光學裝置，其特征在于，

所述連結部包括板簧，該板簧能夠關于所述第1方向使所述操作部和所述接觸部相對地移動。

6.根據權利要求1所述的光學裝置，其特征在于，

所述操作機構構成為能夠變更所述光學零件的狀態，所述狀態包括由所述支撐機構支撐所述光學零件的第1狀態以及由所述操作機構支撐所述光學零件的第2狀態。

7.根據權利要求6所述的光學裝置，其特征在于，

所述狀態從所述第1狀態經由所述第2狀態成為所述第1狀態。

8.根據權利要求6所述的光學裝置，其特征在于，

所述操作機構包括驅動機構，所述驅動機構以使所述狀態從所述第1狀態經由所述第2狀態成為所述第1狀態的方式動作。

9.一種曝光裝置，具備將曝光圖案投影到基板的投影光學系統，其特征在于，

所述投影光學系統包括權利要求1至8中的任意一項所述的光學裝置。

10.一種物品制造方法，其特征在于，包括：

使用權利要求9所述的曝光裝置對涂敷有感光劑的基板進行曝光的工序；

使所述感光劑顯影而形成圖案的工序；以及

使用所述圖案處理所述基板的工序，

根據所述基板制造物品。