[發明專利]光學裝置、曝光裝置以及物品制造方法

有效

• 申請號: 202010216319.3
• 申請日: 2020-03-25
• 公開（公告）號: CN111736298B
• 公開（公告）日: 2023-01-13
• 發明（設計）人: 辻穣
• 申請（專利權）人: 佳能株式會社
• 主分類號: G02B7/182
• 分類號: G02B7/182;G02B7/00;G03F7/20
• 代理公司: 中國貿促會專利商標事務所有限公司 11038
• 代理人: 程晨

本公開涉及光學裝置、曝光裝置以及物品制造方法。光學裝置具備：光學零件；支撐機構，具有支撐所述光學零件的支撐部及限制所述光學零件在第1方向上的位置的位置限制部；以及操作機構，用于對所述光學零件在與所述第1方向不同的第2方向上施加力，操作所述光學零件。所述操作機構包括：接觸部，與所述光學零件接觸；操作部，使所述接觸部在所述第2方向上移動；以及連結部，連結所述接觸部和所述操作部。所述連結部構成為能夠關于所述第1方向使所述操作部和所述接觸部相對地移動。

技術領域

本發明涉及光學裝置、曝光裝置以及物品制造方法。

背景技術

在通過支撐機構支撐如透鏡或者反射鏡的光學零件的光學裝置中，光學零件可能由于由其自重等發生的應力而變形。例如，在專利文獻1中，記載了在透鏡和透鏡設置部在多個點接觸的結構中，透鏡變形而光學特性可能惡化。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2001-242364號公報

發明內容

由于應力引起的光學零件的變形特別在如曝光裝置、大型望遠鏡那樣具有大型的光學零件的光學裝置中，可能對成像性能造成大的影響。另外，即使在具有小型的光學零件的光學裝置中，如果要求的成像性能高，則可能無法忽略由于應力引起的光學零件的變形。

本發明的目的在于提供一種對降低由于對光學零件作用的應力引起的影響有利的技術。

本發明的1個側面涉及光學裝置，所述光學裝置具備：光學零件；支撐機構，具有支撐所述光學零件的支撐部及限制所述光學零件在第1方向上的位置的位置限制部；以及操作機構，用于在與所述第1方向不同的第2方向上對所述光學零件施加力，操作所述光學零件，所述操作機構包括：接觸部，與所述光學零件接觸；操作部，使所述接觸部在所述第2方向上移動；以及連結部，連結所述接觸部和所述操作部，所述連結部構成為能夠關于所述第1方向使所述操作部和所述接觸部相對地移動。

根據本發明，提供對降低由于對光學零件作用的應力引起的影響有利的技術。

附圖說明

圖1是示意地示出第1實施方式的光學裝置的結構的正面圖。

圖2是圖1的A-A剖面圖。

圖3是圖1的B-B剖面圖。

圖4是例示用于降低由于對光學零件作用的應力引起的影響的操作的圖。

圖5是圖4的(b)的C-C剖面圖。

圖6是圖4的(b)的D-D剖面圖

圖7是示出連結部的第1結構例的圖。

圖8是示出支撐機構的其他結構例以及動作例的圖。

圖9是示意地示出第1實施方式的第1實施例的光學裝置的結構的正面圖。

圖10是圖9的F-F剖面圖。

圖11是圖9的G-G剖面圖。

圖12是實施圖4的(b)的工序的第1實施例的曝光裝置的D-D剖面圖。

圖13是示意地示出第1實施方式的第2實施例的光學裝置的結構的正面圖。

圖14是第2實施例的光學裝置的操作機構的立體圖。

圖15是圖13的H-H剖面圖。

圖16是實施圖4的(b)的工序的第2實施例的曝光裝置的D-D剖面圖。

圖17是示意地示出第1實施方式的第3實施例的光學裝置的結構的正面圖。

圖18是圖17的I-I剖面圖。