[發(fā)明專利]一種厚膜發(fā)熱電阻快速老化裝置及老化方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010213773.3 | 申請日: | 2020-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN111251724B | 公開(公告)日: | 2023-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳文卓;曹永茂;冷正超;王吉剛 | 申請(專利權(quán))人: | 山東華菱電子股份有限公司 |
| 主分類號: | B41J2/335 | 分類號: | B41J2/335;B41J2/14 |
| 代理公司: | 威??菩菍@聞?wù)所 37202 | 代理人: | 于濤 |
| 地址: | 264209 山東省威*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 發(fā)熱 電阻 快速 老化 裝置 方法 | ||
1.一種厚膜發(fā)熱電阻快速老化裝置,其特征在于:包括控制模塊,所述控制模塊分別與加熱模塊、電脈沖發(fā)生模塊、測溫模塊、測阻模塊相連接,其中所述加熱模塊用于給放置厚膜發(fā)熱電阻基板的加熱臺進(jìn)行加熱;所述測溫模塊用于實時測量所述加熱臺的溫度,并將測量值傳送至控制模塊;所述測阻模塊用于測量厚膜發(fā)熱電阻基板中發(fā)熱電阻體的阻值,并將測量結(jié)果傳送至控制模塊;所述電脈沖發(fā)生模塊與探針模塊相連接,所述探針模塊內(nèi)的個別電極探針以及共同電極探針用于與厚膜發(fā)熱電阻基板中的發(fā)熱電阻體相連接,所述電脈沖發(fā)生模塊根據(jù)控制模塊的控制產(chǎn)生預(yù)期電平值的電脈沖,并且控制模塊控制該電脈沖的循環(huán)次數(shù)。
2.一種基于權(quán)利要求1所述的厚膜發(fā)熱電阻快速老化裝置的厚膜發(fā)熱電阻快速老化方法,其特征在于:所述方法包括以下步驟:
步驟1、將厚膜發(fā)熱電阻基板放置在加熱臺上,通過控制模塊控制加熱模塊加熱,在加熱的過程中,測溫模塊實時測量所述加熱臺的溫度,并將測量值傳送至控制模塊,所述加熱臺由加熱模塊恒溫加熱至預(yù)設(shè)的溫度并保持該溫度預(yù)設(shè)的時間后冷卻至室溫,以實現(xiàn)厚膜發(fā)熱電阻基板中全數(shù)發(fā)熱電阻體內(nèi)殘余電荷部分或全部的快速耗散;
步驟2、通過測阻模塊測量厚膜發(fā)熱電阻基板中一個發(fā)熱電阻體的阻值,并將測量結(jié)果傳送至控制模塊中,所述控制模塊將該阻值與預(yù)設(shè)的老化目標(biāo)值進(jìn)行比較計算;
步驟3、當(dāng)該阻值沒達(dá)到預(yù)設(shè)的老化目標(biāo)值時,所述控制模塊控制電脈沖發(fā)生模塊產(chǎn)生預(yù)期電平值的電脈沖,通過探針模塊將該電脈沖施加至步驟2中的發(fā)熱電阻體,使其進(jìn)行自發(fā)熱,通過所述控制模塊控制該電脈沖的循環(huán)次數(shù);
步驟4、再次通過測阻模塊測量厚膜發(fā)熱電阻基板中該發(fā)熱電阻體的阻值,并將測量結(jié)果傳送至控制模塊中,所述控制模塊將該阻值與預(yù)設(shè)的老化目標(biāo)值進(jìn)行比較計算;
步驟5、當(dāng)該阻值沒達(dá)到預(yù)設(shè)的老化目標(biāo)值時,重復(fù)步驟3、步驟4,直至電荷耗散完畢,該發(fā)熱電阻體的阻值穩(wěn)定;
步驟6、重復(fù)步驟2-5,進(jìn)行厚膜發(fā)熱電阻基板中下一個發(fā)熱電阻體的老化處理,直至完成厚膜發(fā)熱電阻基板中全部發(fā)熱電阻體的老化處理。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的厚膜發(fā)熱電阻快速老化方法,其特征在于:在所述步驟1中,所述加熱臺由加熱模塊恒溫加熱至預(yù)設(shè)的溫度,所述預(yù)設(shè)的溫度在25-400℃。
4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的厚膜發(fā)熱電阻快速老化方法,其特征在于:在所述步驟3中,所述電脈沖發(fā)生模塊產(chǎn)生的正電平脈沖、負(fù)電平脈沖為一組,其脈沖寬度10ns-1ms,頻率1KHz-10MHz,每一次施加就是將該組電脈沖通過探針模塊施加至步驟2中的發(fā)熱電阻體。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的厚膜發(fā)熱電阻快速老化方法,其特征在于:在所述步驟3中,電脈沖的電平值控制在0-36V。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的厚膜發(fā)熱電阻快速老化方法,其特征在于:在所述步驟3中,電脈沖的循環(huán)次數(shù)控制在1-10次。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于山東華菱電子股份有限公司,未經(jīng)山東華菱電子股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/202010213773.3/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
B41J 打字機;選擇性印刷機構(gòu),即不用印版的印刷機構(gòu);排版錯誤的修正
B41J2-00 以打印或標(biāo)記工藝為特征而設(shè)計的打字機或選擇性印刷機構(gòu)
B41J2-005 .特征在于使液體或粉粒有選擇地與印刷材料接觸
B41J2-22 .特征在于在印刷材料或轉(zhuǎn)印材料上有選擇的施加沖擊或壓力
B41J2-315 .特征在于向熱敏打印或轉(zhuǎn)印材料有選擇地加熱
B41J2-385 .特征在于選擇性地為打印或轉(zhuǎn)印材料提供選擇電流或電磁
B41J2-435 .特征在于有選擇地向印刷材料或轉(zhuǎn)印材料提供照射





