[發明專利]硅片清洗裝置

在審

• 申請號: 202010213564.9
• 申請日: 2020-03-24
• 公開（公告）號: CN111282908A
• 公開（公告）日: 2020-06-16
• 發明（設計）人: 李世磊;姜濤
• 申請（專利權）人: 無錫市正罡自動化設備有限公司
• 主分類號: B08B3/10
• 分類號: B08B3/10;B08B11/02;B08B13/00;B08B15/00;H01L21/67
• 代理公司: 北京挺立專利事務所(普通合伙) 11265
• 代理人: 沃趙新

本發明公開了一種硅片清洗裝置，包括清洗槽，其中設置清洗液，清洗槽上方設置有花籃固定裝置，花籃固定裝置可帶動位于其中的花籃上下移動，所述花籃固定裝置下方設置有罩板，所述花籃固定裝置在豎直方向的投影落在罩板在豎直方向的投影范圍內；所述罩板包括左半部分和右半部分，兩部分均傾斜設置，且兩者之間關于豎直平面對稱設置。進一步的，所述清洗槽頂部兩側設置有風幕機，風幕機形成水平的簾門將清洗槽和其外部隔開。此處設置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片，減少水紋產生，且水沿斜板運動減少慢慢提拉運動過程中運動阻力的問題，使液體在慢慢提拉過程中保持相對靜止。

技術領域

本發明涉及硅片制作技術領域，具體涉及一種硅片清洗裝置。

背景技術

在硅片清洗設備慢慢提拉工藝槽中，通過慢慢提拉工藝使硅片表面的雜志脫離，提高硅片表面潔凈度。然后由于硅片在水蒸氣中停留時間過長，硅片表面由熱水逐步進入常溫狀態，表面容易產生冷凝水，在烘干過過程中容易產生水紋印，進而影響外觀。

發明內容

本發明要解決的技術問題是硅片清洗過程中易產生水紋的技術問題。

為了解決上述技術問題，本發明采用的技術方案為：一種硅片清洗裝置，包括清洗槽，其中設置清洗液，清洗槽上方設置有花籃固定裝置，花籃固定裝置可帶動位于其中的花籃上下移動，所述花籃固定裝置下方設置有罩板，所述花籃固定裝置在豎直方向的投影落在罩板在豎直方向的投影范圍內；所述罩板包括左半部分和右半部分，兩部分均傾斜設置，且兩者之間關于豎直平面對稱設置。

進一步的，所述清洗槽頂部兩側設置有風幕機，風幕機形成水平的簾門將清洗槽和其外部隔開。

進一步的，所述清洗槽的兩個側邊位于風幕機的下方設置有溢流口。

進一步的，所述清洗槽上方還設置有一個新風腔室，花籃固定裝置離開清洗槽后位于新風腔體中，新風腔體頂部設置有風機過濾機組；新風腔體中設置有一個豎直的隔板，隔板上設置有透氣口；隔板與新風腔體側壁之間形成抽氣通道，在抽氣通道頂部設置有抽風機。

從上述技術方案可以看出本發明具有以下優點：此處設置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片，減少水紋產生，且水沿斜板運動減少慢慢提拉運動過程中運動阻力的問題，使液體在慢慢提拉過程中保持相對靜止；形成的簾門不僅可以隔離水蒸氣上升污染硅片，還可以起到烘干硅片表面的作用；設置抽風機可以降低濕度，提高烘干效率，進一步減少水紋。

附圖說明

圖1為本發明的主視透視圖；

圖2為本發明的側視透視圖。

具體實施方式

以下結合附圖對本發明的具體實施方式做具體說明。

如圖1和圖2所示，本發明的硅片清洗裝置包括清洗槽4，清洗槽其中設置清洗液，清洗槽底部可以設置加熱保溫裝置，使清洗液保持在恒定溫度。清洗槽4上方設置有花籃固定裝置5，花籃固定裝置5可帶動位于其中的花籃上下移動。花籃固定裝置可通過氣缸實現上下移動。花籃固定裝置主要包括多個槽盒，槽盒中可放入花籃。花籃則用于裝載硅片。花籃固定裝置下方設置有罩板3，所述花籃固定裝置在豎直方向的投影落在罩板在豎直方向的投影范圍內，即罩板從下方可以對花籃固定裝置進行覆蓋，罩板包括左半部分和右半部分，兩部分均傾斜設置，傾斜角在5～15°之間，且兩者之間關于豎直平面對稱設置。

此處設置罩板第一可以防止清洗液蒸汽上浮后二次污染硅片，減少水紋產生。且水沿斜板運動減少慢慢提拉運動過程中運動阻力的問題，使液體在慢慢提拉過程中保持相對靜止。

所述清洗槽頂部兩側設置有風幕機2，風幕機2形成水平的簾門將清洗槽和其外部隔開。風幕機2可以通入熱空氣，形成的簾門不僅可以隔離水蒸氣上升污染硅片，還可以起到烘干硅片表面的作用。所述清洗槽的兩個側邊位于風幕機的下方設置有溢流口6。

所述清洗槽上方還設置有一個新風腔室1，花籃固定裝置離開清洗槽后位于新風腔體1 中，新風腔體1頂部設置有風機過濾機組7；新風腔體1中設置有一個豎直的隔板9，隔板9 上設置有透氣口10；隔板9與新風腔體1側壁之間形成抽氣通道8，在抽氣通道頂部設置有抽風機。設置抽風可以降低濕度，提高烘干效率，進一步減少水紋。