[發(fā)明專利]一種均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置

在審

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• 申請日: 2020-03-24
• 公開（公告）號: CN111276033A
• 公開（公告）日: 2020-06-12
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 崔蕾
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州育龍科教設(shè)備有限公司
• 主分類號: G09B23/40
• 分類號: G09B23/40;G09B25/06
• 代理公司: 蘇州創(chuàng)元專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 32103
• 代理人: 范晴

1.一種均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于，包括：

臺架；

承載于所述臺架上的透明演示箱，所述透明演示箱側(cè)壁設(shè)置有補(bǔ)水管；

承載于所述臺架、且位于所述透明演示箱下方的儲水箱，所述儲水箱內(nèi)設(shè)置有仿真泥沙；以及，

承載于所述儲水箱內(nèi)的水泵，所述水泵上設(shè)置有與所述透明演示箱側(cè)壁連通的循環(huán)進(jìn)水管，所述透明演示箱側(cè)壁設(shè)置有與所述儲水箱連通的循環(huán)排水管；

其中，所述透明演示箱遠(yuǎn)離所述補(bǔ)水管的一端，其底壁設(shè)置有與所述儲水箱連通、且能夠控制開合的排沙管。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述臺架上設(shè)置有計算機(jī)系統(tǒng)和控制器，所述水泵與所述控制器連接。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述計算機(jī)系統(tǒng)包括計算機(jī)主機(jī)和透明液晶顯示屏，且所述透明演示箱設(shè)置于所述透明液晶顯示屏背面。

4.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述透明演示箱內(nèi)側(cè)壁設(shè)置有驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置上設(shè)置有能夠往復(fù)運(yùn)動的驅(qū)動桿，所述驅(qū)動桿端部設(shè)置有能夠伸入所述排沙管內(nèi)的活塞。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述活塞呈圓臺型。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-3中任一項所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述儲水箱內(nèi)設(shè)置有泥沙過濾隔板，所述泥沙過濾隔板將所述儲水箱內(nèi)分隔成存沙區(qū)和無沙區(qū)，所述水泵與仿真泥沙均位于所述存沙區(qū)內(nèi)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述泥沙過濾隔板頂端低于所述儲水箱，所述存沙區(qū)內(nèi)設(shè)置有上蓋過濾板；所述上蓋過濾板一端與所述泥沙過濾隔板連接，另一端與所述儲水箱內(nèi)側(cè)壁連接，且所述排沙管和循環(huán)排水管均穿過所述上蓋過濾板伸入所述存沙區(qū)內(nèi)；所述泥沙過濾隔板的濾沙孔徑小于所述仿真泥沙的最小粒徑，所述上蓋過濾板的濾沙孔徑大于所述泥沙過濾隔板的濾沙孔徑。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述存沙區(qū)內(nèi)設(shè)置有導(dǎo)流板，所述導(dǎo)流板一端與所述儲水箱內(nèi)側(cè)壁連接，另一端與所述儲水箱內(nèi)底壁連接；所述水泵靠近所述儲水箱內(nèi)底壁，且位于所述泥沙過濾隔板與導(dǎo)流板之間。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述無沙區(qū)內(nèi)底壁設(shè)置有排水管，所述排水管上設(shè)置有排水閥。

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的均衡剖面溯源侵蝕仿真演示裝置，其特征在于：所述補(bǔ)水管上設(shè)置有與所述控制器連接的電磁閥和流量監(jiān)測傳感器。