[發明專利]一種擾動力生成裝置及方法

有效

• 申請號: 202010199517.3
• 申請日: 2020-03-20
• 公開（公告）號: CN113495010B
• 公開（公告）日: 2023-04-07
• 發明（設計）人: 游繼光
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備(集團)股份有限公司
• 主分類號: G01M99/00
• 分類號: G01M99/00
• 代理公司: 北京品源專利代理有限公司 11332
• 代理人: 孟金喆

本發明實施例公開了一種擾動力生成裝置及方法。其中，擾動力生成裝置包括：流體源；至少一個擾動力調節單元，任一擾動力調節單元的入口與流體源的出口連通，任一擾動力調節單元包括：擾動力波動值生成支路，擾動力波動值生成支路的入口與擾動力調節單元的入口連通，擾動力波動值生成支路的出口與擾動力調節單元的出口連通；擾動力波動值生成支路包括：高頻開關閥和第一流量調節模塊，高頻開關閥與第一流量調節模塊串聯連通。本發明實施例的技術方案中的擾動力生成裝置可生成頻率和波動范圍可調的擾動力。

技術領域

本發明涉及測試技術領域，尤其涉及一種擾動力生成裝置及方法。

背景技術

隨著集成電路產品技術要求的提升，光刻技術也不斷地提高分辨率以制作更加微細的器件尺寸，目前較為常用的就是浸沒式光刻技術。

所謂的浸沒式光刻技術是指在曝光鏡頭與硅片之間充滿水或更高折射的浸沒液體以取代傳統干式光刻技術中對應的空氣。由于水的折射率比空氣大，所以浸沒式光刻技術就是利用光通過液體介質后光源波長縮短來提高分辨率，其縮短的倍率即為液體介質的折射率。

浸沒式光刻系統包括物鏡、浸沒頭(Immersion?Hood)、工件臺，硅片放置在工件臺上且位于物鏡的下方，浸沒頭設置在物鏡附近，物鏡、浸沒頭和硅片之間形成一空間，水或其它浸沒液體填充所述空間。

浸沒式光刻系統在工作時，容易受到外界振動的干擾，導致光刻精度下降，故需要預先對浸沒式光刻系統的抗擾性能進行測試。

發明內容

本發明實施例提供一種擾動力生成裝置及方法，可以模擬浸沒頭或工件臺受到的擾動力，為測試浸沒頭或工件臺的抗擾性能提供條件。

第一方面，本發明實施例提供了一種擾動力生成裝置，包括：

流體源；

至少一個擾動力調節單元，任一擾動力調節單元的入口與流體源的出口連通，任一擾動力調節單元包括：擾動力波動值生成支路，擾動力波動值生成支路的入口與擾動力調節單元的入口連通，擾動力波動值生成支路的出口與擾動力調節單元的出口連通；

擾動力波動值生成支路包括：高頻開關閥和第一流量調節模塊，高頻開關閥與第一流量調節模塊串聯連通。

進一步地，第一流量調節模塊包括：單向節流閥或電控兩通調節閥。

進一步地，擾動力波動值生成支路還包括第一開關閥和第一流量檢測模塊，第一開關閥、高頻開關閥、第一流量調節模塊和第一流量檢測模塊串聯連通。

進一步地，第一開關閥包括隔膜閥，擾動力生成裝置還包括與隔膜閥對應設置的第一調壓閥和電磁閥，流體源經第一調壓閥、電磁閥與隔膜閥的控制腔連通。

進一步地，任一擾動力調節單元還包括：擾動力均值生成支路，擾動力均值生成支路的入口與擾動力調節單元的入口連通，擾動力均值生成支路的出口與擾動力波動值生成支路的出口匯合連通至擾動力調節單元的出口；

擾動力均值生成支路包括第二流量調節模塊。

進一步地，第二流量調節模塊包括：單向節流閥，或者，第二流量調節模塊包括：串聯連通的質量流量控制器和單向閥。

進一步地，擾動力均值生成支路還包括第二開關閥和第二流量檢測模塊，第二開關閥、第二流量調節模塊和第二流量檢測模塊串聯連通。

進一步地，擾動力生成裝置還包括流體源處理單元，流體源處理單元的入口與流體源的出口連通，流體源處理單元的出口與至少一個擾動力調節單元的入口連通，流體源處理單元包括：串聯連通的第三開關閥、第二調壓閥、壓力檢測模塊和流體過濾器。

進一步地，擾動力調節單元的數量為至少兩個，流體源包括氣源。