[發明專利]MALDI質譜分析用測定試樣制備方法及其裝置在審
| 申請號: | 202010195797.0 | 申請日: | 2020-03-18 |
| 公開(公告)號: | CN111721595A | 公開(公告)日: | 2020-09-29 |
| 發明(設計)人: | 植松克之;鈴木一己 | 申請(專利權)人: | 株式會社理光 |
| 主分類號: | G01N1/28 | 分類號: | G01N1/28;G01N1/42;G01N27/62 |
| 代理公司: | 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245 | 代理人: | 魏延玲 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | maldi 譜分析 測定 試樣 制備 方法 及其 裝置 | ||
本發明涉及MALDI質譜分析用測定試樣制備方法,MALDI質譜分析用測定試樣制備裝置,MALDI質譜分析用測定試樣,MALDI質譜分析方法,以及計算機可讀存儲介質。本發明的課題在于,提供通過MALDI進行質譜分析時可向一個試樣配置二種以上基質的MALDI質譜分析用測定試樣制備方法。在本發明的MALDI質譜分析用測定試樣制備方法中,基材將用于制備MALDI質譜分析用測定試樣的基質配置在表面,通過將激光束照射所述基材的與配置所述基質側相反側的所述基材的表面,使得所述基質從所述基材飛行,使其配置在MALDI質譜分析對象的試樣的規定位置。
技術領域
本發明涉及MALDI質譜分析用測定試樣制備方法,MALDI質譜分析用測定試樣制備裝置,MALDI質譜分析用測定試樣,MALDI質譜分析方法,以及計算機可讀存儲介質。
背景技術
質譜分析(mass spectrometry)是一種分析方法,其使含有對象分子的試樣離子化,由質荷比(質量-電荷比)(m/z)分離檢測對象分子由來的離子,能夠獲取對象分子中的關于特定化學結構的信息。
在質譜分析中,試樣的離子化是影響分析質量的因素,一直以來已開發出多種方法。例如,可以列舉MALDI(Matrix Assisted Laser Desorption/Ionization,基質輔助激光解吸/電離)和ESI(Electro Spray Ionization,電噴霧離子化)等。這些方法即使在試樣量為微量也容易離子化,因此,用于生物和醫療等技術領域。
在MALDI中,基質(matrix)作為用于輔助試樣離子化的物質,通過向將基質賦予試樣的地方處照射脈沖激光,與基質一起使試樣離子化。
作為脈沖激光,大多使用紫外區域的波長,優選根據基質的光吸收特性的波長。另外,基質是結晶性的有機低分子,據說必須作為與試樣的共結晶或混合物。由于認為該共晶的均一度和混合程度會影響分析的靈敏度和精度,因此,開發適用于試樣的基質。
還提出關于將這些基質賦予試樣的各種方法。例如,提出以下質譜分析用試樣制備方法:將基質蒸鍍形成微結晶,接著,將基質溶液噴霧,在微結晶上使得基質結晶生長(例如,參照專利文獻1)。
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開2014-206389號公報
發明內容
本發明就是鑒于上述以往技術所存在的問題而提出來的,其目的在于,提供通過MALDI進行質譜分析時可向一個試樣配置二種以上基質的MALDI質譜分析用測定試樣制備方法。
作為用于解決上述課題的手段,本發明的MALDI質譜分析用測定試樣制備方法,其特征在于:
基材將用于制備MALDI質譜分析用測定試樣的基質配置在表面,通過將激光束照射所述基材的與配置所述基質側相反側的所述基材的表面,使得所述基質從所述基材飛行(fly),使其配置在MALDI質譜分析對象的試樣的規定位置。
下面說明本發明效果:
根據本發明,可以提供通過MALDI進行質譜分析時可向一個試樣配置二種以上基質的MALDI質譜分析用測定試樣制備方法。
附圖說明
圖1A是表示粉體形成裝置的整體一例的概略圖。
圖1B是表示圖1A的液滴形成單元中的液滴形成頭的概略圖。
圖1C是圖1A的液滴形成單元的A-A'線截面圖。
圖2是表示能在本發明的MALDI質譜分析用測定試樣制備方法中使用的激光束照射手段一例的概略圖。
圖3A是表示MALDI質譜分析用測定試樣制備裝置的硬件一例的方框圖。
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