[發明專利]液體靶裝置

在審

• 申請號: 202010195674.7
• 申請日: 2020-03-19
• 公開（公告）號: CN111724927A
• 公開（公告）日: 2020-09-29
• 發明（設計）人: 鵜野浩行;越智重治;F·圭拉
• 申請（專利權）人: 住友重機械工業株式會社
• 主分類號: G21G1/10
• 分類號: G21G1/10
• 代理公司: 永新專利商標代理有限公司 72002
• 代理人: 夏斌

本發明提供一種液體靶裝置，即使在靶箔破損時也可防止靶液體向裝置外流出。該液體靶裝置(1)具備：靶容納部(23)，作為液體容納部而容納靶液體；射束通道(11)，使從粒子加速器(3)出射的帶電粒子束(B)通過至液體容納部；靶箔(33)，對射束通道(11)與液體容納部之間進行劃分；及真空箔(31)，對設置于射束通道(11)的上游側的真空區域(A1)與射束通道(11)進行劃分，在射束通道(11)上設置有在真空箔(31)側供給冷卻氣體的第1氣體室(R1)及在比第1氣體室(R1)靠靶箔(33)側供給冷卻氣體的第2氣體室(R2)，第1氣體室(R1)與所述第2氣體室(R2)之間通過中間箔(32)被劃分。

技術領域

本申請主張基于2019年3月22日申請的日本專利申請第2019-054739號的優先權。該日本申請的全部內容通過參考援用于本說明書中。

本發明涉及一種液體靶裝置。

背景技術

以往，作為這種領域的技術，已知有下述專利文獻1、2中記載的液體靶裝置。在該液體靶裝置中容納有靶液體，通過粒子加速器加速的帶電粒子束照射于靶液體而生成靶液體的放射性同位素(RI)。

專利文獻1：日本專利第4541445號公報

專利文獻2：日本專利第5442523號公報

上述液體靶裝置中，靶的容納部的上游側的開口被所謂靶箔覆蓋。當為這種裝置結構的情況下，在照射帶電粒子束時靶箔有時會破損。若靶箔破損，則靶液體有可能流入粒子加速器側。

發明內容

本發明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于提供一種即使在靶箔破損時也能夠防止靶液體向粒子加速器側流出的液體靶裝置。

為了實現上述目的，本發明的一方式所涉及的液體靶裝置具備：液體容納部，容納靶液體；射束通道，使從粒子加速器出射的帶電粒子束通過至所述液體容納部；靶箔，對所述射束通道與所述液體容納部之間進行劃分；及真空箔，對設置于所述射束通道的上游側的真空區域與所述射束通道進行劃分，在所述射束通道上設置有在所述真空箔側供給冷卻氣體的第1氣體室及在比所述第1氣體室靠所述靶箔側供給冷卻氣體的第2氣體室，所述第1氣體室與所述第2氣體室之間通過中間箔被劃分。

根據上述液體靶裝置，在液體容納部的靶箔與真空區域之間設置有將射束通道進行劃分的真空箔和中間箔。因此，倘若因靶箔破損致使保持于液體容納部中的靶液體流出到第2氣體室，也可通過中間箔限制該靶液體的移動，因此可防止靶液體經過第1氣體室向真空區域移動。因此，即使在靶箔破損時也能夠防止靶液體向粒子加速器側流出。

在此，能夠將液體靶裝置設為如下方式：所述第1氣體室的冷卻氣體的流通系統與所述第2氣體室的冷卻氣體的流通系統相互獨立。

通過設為上述結構，倘若靶液體流出到第2氣體室并伴隨冷卻氣體的移動而排出到系統外，由于第2氣體室的冷卻氣體的流通系統與第1氣體室的冷卻氣體的流通系統為相互獨立，也能夠防止靶液體誤供給至第1氣體室等。

能夠將液體靶裝置設為如下方式：該液體靶裝置還具有：配管，使從所述第2氣體室排出的流體流過；及回收部，設置于所述配管且用于回收所述流體中所含的雜質。

如上所述，通過設為在使從第2氣體室排出的流體流過的配管上設置有用于回收該流體中所含的雜質的回收部的結構，倘若靶液體泄漏到第2氣體室并伴隨冷卻氣體的移動而流到配管，也能夠在回收部回收靶液體，因此能夠防止靶液體向后段流出。

能夠將液體靶裝置設為如下方式：與不同于自裝置的其他液體靶裝置共享所述第1氣體室的冷卻氣體的流通系統。