[發明專利]液體靶裝置在審
| 申請號： | 202010195674.7 | 申請日： | 2020-03-19 |
| 公開（公告）號： | CN111724927A | 公開（公告）日： | 2020-09-29 |
| 發明（設計）人： | 鵜野浩行;越智重治;F·圭拉 | 申請（專利權）人： | 住友重機械工業株式會社 |
| 主分類號： | G21G1/10 | 分類號： | G21G1/10 |
| 代理公司： | 永新專利商標代理有限公司 72002 | 代理人： | 夏斌 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 液體 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種液體靶裝置，其具備：
液體容納部，容納靶液體；
射束通道，使從粒子加速器出射的帶電粒子束通過至所述液體容納部；
靶箔，對所述射束通道與所述液體容納部之間進行劃分；及
真空箔，對設置于所述射束通道的上游側的真空區域與所述射束通道進行劃分；
在所述射束通道上設置有在所述真空箔側供給冷卻氣體的第1氣體室及在比所述第1氣體室靠所述靶箔側供給冷卻氣體的第2氣體室，
所述第1氣體室與所述第2氣體室之間通過中間箔被劃分。
2.根據權利要求1所述的液體靶裝置，其中，
所述第1氣體室的冷卻氣體的流通系統與所述第2氣體室的冷卻氣體的流通系統相互獨立。
3.根據權利要求1或2所述的液體靶裝置，其還具有：
配管，使從所述第2氣體室排出的流體流過；及
回收部，設置于所述配管且用于回收所述流體中所含的雜質。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的液體靶裝置，其中，
與不同于自裝置的其他液體靶裝置共享所述第1氣體室的冷卻氣體的流通系統。
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