[發明專利]處理曝光圖形數據的方法、曝光控制單元和直寫式曝光機

有效

• 申請號: 202010188495.0
• 申請日: 2020-03-17
• 公開（公告）號: CN111208713B
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發明（設計）人: 張玉喆
• 申請（專利權）人: 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京景聞知識產權代理有限公司 11742
• 代理人: 賈玉姣

本發明提出了一種處理曝光圖形數據的方法、曝光控制單元和直寫式曝光機，該方法包括：響應于一段數據讀取完成，將讀取數據的地址指針定位到下一段數據所需重復數據的地址處的重定位步驟；根據所述下一段數據所需重復數據的地址和下一段數據的地址，從所述第一存儲單元中讀取所需重復數據和所述下一段數據的讀取步驟；重復所述重定位步驟和所述讀取步驟，直至獲得所述曝光圖形數據的每段數據。本發明的處理曝光圖形數據的方法，通過增加第一存儲單元存儲曝光數據，在數據處理時，從第一存儲單元直接讀取所需數據，無需再次發送，既節省了數據的傳輸帶寬，也節省了傳輸時間，從而提高了曝光機的產能。

技術領域

本發明涉及曝光技術領域，尤其是涉及一種曝光圖形數據的方法，以及曝光控制單元和直寫式曝光機。

背景技術

直寫式曝光機是PCB(Printed Circuit Board，印制電路板)及掩膜板生產過程中的關鍵設備，在PCB和掩模板生產過程中，產能是每個生產廠家都關心的問題，直寫式曝光機省去曝光機制作菲林等環節，通過DMD(Digital Micromirror Device，數字微鏡)將曝光圖形直接轉移至曝光基板上，來提高PCB的產能。

但是，但由于PCB線路的復雜性不同，不同的PCB圖形其資料的文件大小也不同，對于復雜的圖形資料，傳輸時間會相應增加，從而使產能較低。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一。為此，本發明的一個目的在于提出一種處理曝光圖形數據的方法，該方法可以節省數據傳輸時間，利于提高電路板或掩模版的產能。

本發明的第二個目的在于提出一種曝光控制單元。

本發明的第三個目的在于提出一種直寫式曝光機。

為了達到上述目的，本發明的第一方面實施例提出了一種處理曝光圖形數據的方法，用于直寫式曝光機，所述直寫式曝光機包括曝光控制單元，所述曝光控制單元包括用于存儲上位機發送的曝光圖形數據的第一存儲單元，所述方法包括：響應于一段數據讀取完成，將讀取數據的地址定位到下一段數據所需重復數據的地址處的重定位步驟；根據所述下一段數據所需重復數據的地址和下一段數據的地址，從所述第一存儲單元中讀取所需重復數據和所述下一段數據的讀取步驟；重復所述重定位步驟和所述讀取步驟，直至獲得完整的所述曝光圖形數據。

根據本發明實施例的處理曝光圖形數據的方法，通過增加第一存儲單元存儲上位機發送的曝光圖形數據，保證下發數據不會丟失，并在數據處理時，對于曝光所需的重復數據，通過重定位步驟重定位對第一存儲單元的讀地址，從第一存儲單元可以直接讀取，無需上位機再次發送，既節省了數據傳輸時間，也節省了數據的傳輸帶寬，從而提高了生成PCB板或掩模版的產能。

在一些實施例中，所述曝光圖形數據包括填充后的二值化數據、灰度數據、矢量數據中的任意一種。

在一些實施例中，所述曝光控制單元還包括第二存儲單元，所述方法還包括：對所述曝光圖形數據進行處理，并將處理后的所述曝光圖形數據存儲至所述第二存儲單元。

在一些實施例中，所述方法還包括：接收到所述上位機發送的所述曝光圖形數據；根據預設存儲順序控制所述第一存儲單元的寫地址，以將所述曝光圖形數據存儲至所述第一存儲單元。

在一些實施例中，所述曝光圖形數據為矢量數據時，所述根據預設存儲順序控制所述第一存儲單元的寫地址，以將所述曝光圖形數據存儲至所述第一存儲單元包括：將接收到的矢量坐標文件還原為二值圖像數據；將所述二值圖像數據存儲至所述第一存儲單元，其中，所述第一存儲單元的寫地址按照預設存儲順序遞增。

為了達到上述目的，本發明的第二方面實施例提出一種曝光控制單元包括：第一存儲單元，用于存儲曝光圖形數據；第二存儲單元，用于存儲處理后的曝光圖形數據；核心控制芯片，與所述第一存儲單元和所述第二存儲單元分別通信連接，用于上面實施例提到的任意一項的處理曝光圖形數據的方法。