[發(fā)明專利]處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法、曝光控制單元和直寫式曝光機(jī)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010188495.0
• 申請日: 2020-03-17
• 公開（公告）號: CN111208713B
• 公開（公告）日: 2022-08-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張玉喆
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥芯碁微電子裝備股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京景聞知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11742
• 代理人: 賈玉姣

1.一種處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法，用于直寫式曝光機(jī)，其特征在于，所述直寫式曝光機(jī)包括曝光控制單元，所述曝光控制單元包括用于存儲上位機(jī)發(fā)送的曝光圖形數(shù)據(jù)的第一存儲單元，所述方法包括：

響應(yīng)于一段數(shù)據(jù)讀取完成，將讀取數(shù)據(jù)的地址指針定位到下一段數(shù)據(jù)所需重復(fù)數(shù)據(jù)的地址處的重定位步驟；

根據(jù)所述下一段數(shù)據(jù)所需重復(fù)數(shù)據(jù)的地址和下一段數(shù)據(jù)的地址，從所述第一存儲單元中讀取所需重復(fù)數(shù)據(jù)和所述下一段數(shù)據(jù)的讀取步驟；

重復(fù)所述重定位步驟和所述讀取步驟，直至獲得所述曝光圖形數(shù)據(jù)的每段數(shù)據(jù)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法，其特征在于，所述曝光圖形數(shù)據(jù)包括填充后的二值化數(shù)據(jù)、灰度數(shù)據(jù)、矢量數(shù)據(jù)中的任意一種。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法，其特征在于，所述曝光控制單元還包括第二存儲單元，所述方法還包括：

對所述曝光圖形數(shù)據(jù)進(jìn)行處理，并將處理后的所述曝光圖形數(shù)據(jù)存儲至所述第二存儲單元。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法，其特征在于，所述方法還包括：

接收到所述上位機(jī)發(fā)送的所述曝光圖形數(shù)據(jù)；

根據(jù)預(yù)設(shè)存儲順序控制所述第一存儲單元的寫地址，以將所述曝光圖形數(shù)據(jù)存儲至所述第一存儲單元。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法，其特征在于，所述曝光圖形數(shù)據(jù)為矢量數(shù)據(jù)時(shí)，所述根據(jù)預(yù)設(shè)存儲順序控制所述第一存儲單元的寫地址，以將所述曝光圖形數(shù)據(jù)存儲至所述第一存儲單元包括：

將接收到的矢量坐標(biāo)文件還原為二值圖像數(shù)據(jù)；

將所述二值圖像數(shù)據(jù)按照預(yù)設(shè)存儲順序存儲至所述第一存儲單元，其中，所述第一存儲單元的寫地址按照預(yù)設(shè)存儲順序遞增。

6.一種曝光控制單元，其特征在于，包括：

第一存儲單元，用于存儲曝光圖形數(shù)據(jù)；

第二存儲單元，用于存儲處理后的曝光圖形數(shù)據(jù)；

核心控制芯片，與所述第一存儲單元和所述第二存儲單元分別通信連接，用于執(zhí)行權(quán)利要求1-5任意一項(xiàng)所述的處理曝光圖形數(shù)據(jù)的方法。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光控制單元，其特征在于，所述第一存儲單元包括DDR2、DDR3、DDR4的內(nèi)存條中的一種。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的曝光控制單元，其特征在于，所述核心控制芯片包括現(xiàn)場可編程門陣列。

9.一種直寫式曝光機(jī)，其特征在于，包括曝光系統(tǒng)、數(shù)字微鏡裝置和權(quán)利要求6-8任一項(xiàng)所述的曝光控制單元，所述曝光控制單元用于根據(jù)曝光圖形數(shù)據(jù)對所述曝光系統(tǒng)和所述數(shù)字微鏡裝置分別進(jìn)行控制。