[發(fā)明專利]磨耗量測量裝置以及磨耗量測量方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010186184.0 | 申請日： | 2020-03-17 |
| 公開（公告）號： | CN111721196A | 公開（公告）日： | 2020-09-29 |
| 發(fā)明（設計）人： | 手島俊行;豐田千惠 | 申請（專利權(quán)）人： | 株式會社捷太格特 |
| 主分類號： | G01B11/00 | 分類號： | G01B11/00 |
| 代理公司： | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人： | 王瑋;蘇琳琳 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 磨耗 測量 裝置 以及 測量方法 | ||
1.一種磨耗量測量裝置，其特征在于，具有：
光照射部，其將光照射于具有磨耗面的被測定物；
拍攝部，其拍攝所述被測定物；以及
運算部，其根據(jù)通過所述拍攝部得到的圖像確定所述被測定物的所述磨耗面來計算磨耗量，
其中，
所述光照射部、所述拍攝部以及所述被測定物的位置關系被設定為，在取代所述被測定物而配置了具有磨耗面的替代被測定物時，所述光照射部與所述拍攝部的配置相對于所述替代被測定物的所述磨耗面成為正反射的關系，
所述運算部根據(jù)所述圖像的亮度的不同確定所述磨耗面來計算磨耗量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磨耗量測量裝置，其特征在于，
所述磨耗量測量裝置還具有進行減少所述光照射部相對于所述被測定物以及所述替代被測定物的預設角的控制的預設角調(diào)整部。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的磨耗量測量裝置，其特征在于，
所述磨耗量測量裝置具有多個所述光照射部，根據(jù)各所述光照射部每個，所述光照射部、所述拍攝部以及所述被測定物的位置關系被設定為，在取代所述被測定物而配置了具有磨耗面的替代被測定物時，所述光照射部與所述拍攝部的配置相對于所述替代被測定物的磨耗面成為正反射的關系，
來自各所述光照射部的光相對于所述替代被測定物的所述磨耗面的入射角配置為彼此不同。
4.一種磨耗量測量方法，其特征在于，
將光照射于具有磨耗面的被測定物，拍攝所述被測定物，根據(jù)通過拍攝得到的圖像確定所述被測定物的所述磨耗面來計算磨耗量，
其中，
光的照射方向與拍攝方向的關系成為，在取代所述被測定物而配置了具有磨耗面的替代被測定物時，光的照射方向與拍攝方向相對于所述替代被測定物的所述磨耗面成為正反射的關系，
根據(jù)所述圖像的亮度的不同確定所述磨耗面來計算磨耗量。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的磨耗量測量方法，其特征在于，
為了所述替代被測定物的所述磨耗面被拍攝得亮，通過逐漸減少照射的光的預設角反復調(diào)整光的照射方向與拍攝方向，從而調(diào)整為光的照射方向與拍攝方向相對于所述替代被測定物的所述磨耗面成為正反射的關系。
6.根據(jù)權(quán)利要求4或5所述的磨耗量測量方法，其特征在于，
從多個方向?qū)Ρ粶y定物照射光，根據(jù)各照射方向每個，光的照射方向與拍攝方向的關系成為，在取代所述被測定物而配置了具有磨耗面的替代被測定物時，光的照射方向與拍攝方向相對于所述替代被測定物的所述磨耗面成為正反射的關系，
來自各照射方向的光相對于所述替代被測定物的所述磨耗面的入射角彼此不同。
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