[發明專利]探測裝置及方法在審
| 申請號: | 202010184409.9 | 申請日: | 2020-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN111323787A | 公開(公告)日: | 2020-06-23 |
| 發明(設計)人: | 雷述宇 | 申請(專利權)人: | 寧波飛芯電子科技有限公司 |
| 主分類號: | G01S17/10 | 分類號: | G01S17/10;G01S17/89;G01S7/4863;G01S7/484;G01S7/48 |
| 代理公司: | 北京超凡宏宇專利代理事務所(特殊普通合伙) 11463 | 代理人: | 徐麗 |
| 地址: | 315000 浙江省寧*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 探測 裝置 方法 | ||
1.一種探測裝置,其特征在于,包括:光發射模塊、處理模塊、以及光接收模塊,所述光發射模塊包括至少兩個發射區域,所述光接收模塊包括與所述光發射模塊對應的至少兩個接收區域;
所述處理模塊,用于產生發射序列指令;
所述光發射模塊,與所述處理模塊電性連接,用于根據所述處理模塊產生的發射序列指令使所述至少兩個發射區域順序輸出發射光;
所述光接收模塊,與所述處理模塊電性連接,用于根據所述處理模塊產生的發射序列指令,使所述至少兩個接收區域接收所述發射光經探測目標反射的至少兩次反射光;
所述處理模塊,用于根據所述發射序列指令順序獲得所述至少兩個接收區域的數據,并計算獲得包含至少兩次反射光信息的探測目標距離數據。
2.根據權利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述光發射模塊包括至少兩個發射陣列,每個所述發射陣列作為一個所述發射區域。
3.根據權利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述光發射模塊包括一個發射陣列,所述發射陣列被分割為至少兩個發射模塊,每個所述發射模塊作為一個所述發射區域。
4.根據權利要求3所述的探測裝置,其特征在于,所述發射模塊包括至少兩個發射單元,同一所述發射區域的至少部分發射單元在不同時刻輸出發射光。
5.根據權利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述光發射模塊包括至少兩個發射單元,每個所述發射單元作為一個所述發射區域的組成單元。
6.根據權利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述處理模塊,具體用于按照函數、列表、數列或者隨機產生序列至少一種方式產生所述發射序列指令。
7.根據權利要求6所述的探測裝置,其特征在于,所述處理模塊,還用于根據所述發射序列指令確定每次所述反射光對應的所述接收區域為目標接收區域;
根據所述目標接收區域接收所述反射光對應的時間信息,獲得至少部分目標距離信息。
8.根據權利要求7所述的探測裝置,其特征在于,所述處理模塊,還用于根據所述目標接收區域,將接收區域中除所述目標接收區域以外其他接收區域的接收信號置為預設值。
9.根據權利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述處理模塊,具體用于根據所述發射序列指令和每次所述反射光對應的接收時間,生成探測目標圖;所述探測目標圖包括所述探測目標的全部距離數據。
10.根據權利要求3或4所述的探測裝置,其特征在于,所述發射模塊為單片垂直腔面激光芯片。
11.根據權利要求1所述的探測裝置,其特征在于,所述光發射模塊,還用于根據所述發射序列指令,每次一個或多個發射區域輸出發射光。
12.一種探測方法,其特征在于,應用于上述權利要求1-11任一項所述的探測裝置,所述探測方法包括:
產生發射序列指令;
根據所述發射序列指令,所述至少兩個發射區域順序輸出發射光;
根據所述發射序列指令,所述至少兩個接收區域接收所述發射光經探測目標反射的至少兩次反射光;
根據所述發射序列指令順序獲得所述至少兩個接收區域的數據,并計算獲得包含至少兩次反射光信息的探測目標距離數據。
13.根據權利要求12所述的方法,其特征在于,所述光發射模塊包括至少兩個發射陣列,每個所述發射陣列作為一個所述發射區域。
14.根據權利要求12所述的方法,其特征在于,所述光發射模塊包括一個發射陣列,所述發射陣列被分割為至少兩個發射模塊,每個所述發射模塊作為一個所述發射區域。
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