[發(fā)明專利]蒸鍍裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010183889.7 | 申請日: | 2020-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN113403586A | 公開(公告)日: | 2021-09-17 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 林文晶;軒景泉;錢海濤;趙軍;劉萍 | 申請(專利權(quán))人: | 上海升翕光電科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/24 | 分類號: | C23C14/24;C23C14/04;C23C14/12 |
| 代理公司: | 北京匯思誠業(yè)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11444 | 代理人: | 馮偉 |
| 地址: | 200540 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 裝置 | ||
1.一種蒸鍍裝置,其特征在于,包括:
坩堝(1),所述坩堝(1)的內(nèi)部具有多個用于收容蒸鍍材料的收容槽(11),相鄰兩個所述收容槽(11)之間設(shè)置有加熱槽(3),所述加熱槽(3)設(shè)置于所述坩堝(1)的外部,所述收容槽(11)的外表面和所述加熱槽(3)均設(shè)置有加熱件(4);
蓋板(2),所述蓋板(2)蓋設(shè)于所述坩堝(1)上,所述蓋板(2)設(shè)置有多個用于噴出蒸鍍材料的蒸發(fā)口部(211)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述坩堝(1)的內(nèi)部還設(shè)置有擴散腔(12),所述擴散腔(12)設(shè)置于所述收容槽(11)和所述蓋板(2)之間。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述坩堝(1)的內(nèi)部還設(shè)置有分隔板(13),所述分隔板(13)設(shè)置于所述收容槽(11)和所述擴散腔(12)之間,所述分隔板(13)均勻地設(shè)置有多個用于連通所述收容槽(11)和所述擴散腔(12)的第一通孔(131)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述坩堝(1)的內(nèi)部設(shè)置有多個隔層部(14),所述坩堝(1)的底壁(15)設(shè)置有多個第二通孔(151),所述隔層部(14)設(shè)置于所述第二通孔(151)的兩側(cè),以在所述坩堝(1)的內(nèi)部形成多個所述收容槽(11)和在所述坩堝(1)的外部形成多個所述加熱槽(3);
相鄰兩個所述收容槽(11)之間設(shè)置有所述隔層部(14),所述加熱槽(3)形成于所述隔層部(14)的內(nèi)部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述加熱槽(3)設(shè)置有用于固定所述加熱件(4)的安裝部(31)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述收容槽(11)沿水平方向(X)的截面積由下至上逐漸增大。
7.根據(jù)權(quán)利要求1-6中任一項所述的蒸鍍裝置,其特征在于,所述坩堝(1)的頂部沿水平方向(X)的截面為長方形,所述蓋板(2)沿水平方向(X)的截面為長方形;
所述蓋板(2)設(shè)置有多個與所述坩堝(1)的長度方向(L)平行設(shè)置的線源(21),每個所述線源(21)設(shè)置有多個所述蒸發(fā)口部(211),每個線源(21)的所述蒸發(fā)口部(211)沿所述坩堝(1)的長度方向(L)成鋸齒狀排列。
8.根據(jù)權(quán)利要求7中任一項所述的蒸鍍裝置,其特征在于,多個所述線源(21)之間相鄰的所述蒸發(fā)口部(211)沿所述坩堝(1)的寬度方向(W)成鋸齒狀排列。
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- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





