[發(fā)明專利]一種清洗裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 202010182719.7
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111359971B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 朱朝月;楊碩;楊斌;張孟湜
• 申請（專利權(quán)）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B13/00;C23C14/04
• 代理公司: 北京遠(yuǎn)智匯知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

本發(fā)明實(shí)施例公開了一種清洗裝置。該清洗裝置包括：清洗槽和支撐件，清洗槽包括至少一組第一進(jìn)液口組和/或一組第二進(jìn)液口組；支撐件位于清洗槽中，支撐件用于支撐固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面與清洗槽的槽底垂直；其中，每組第一進(jìn)液口組包括兩個(gè)第一進(jìn)液口，在掩膜版固定于支撐件上時(shí)，在每組第一進(jìn)液口組中，兩個(gè)第一進(jìn)液口分別位于掩膜版的兩對側(cè)，且兩個(gè)第一進(jìn)液口間的連線與待清洗面垂直；和/或第二進(jìn)液口組包括至少一個(gè)第二進(jìn)液口，在掩膜版固定于支撐件上時(shí)，各第二進(jìn)液口與其相對的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交疊。本發(fā)明實(shí)施例提供的技術(shù)方案可以降低掩膜版平面所受法向沖擊力，從而避免掩膜版發(fā)生褶皺。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種清洗裝置。

背景技術(shù)

掩膜版是制造OLED(Organic Light-Emitting Diode，有機(jī)發(fā)光二極管)顯示屏的重要部件，例如采用真空蒸鍍技術(shù)制備有機(jī)發(fā)光層時(shí)，有機(jī)材料通過高溫蒸鍍淀積在位于蒸發(fā)源上方的背板上，為使有機(jī)材料按照設(shè)計(jì)蒸鍍到特定的位置上，在背板下方需使用高精度金屬掩膜版，掩膜版(即高精度金屬掩膜版板)上留有預(yù)先設(shè)計(jì)好的有效開口區(qū)域，通過該有效開口區(qū)域，有機(jī)材料沉積到背板上面，形成預(yù)設(shè)圖形。

掩膜版在使用一段時(shí)間后，表面會沉積有機(jī)或金屬材料層，當(dāng)有機(jī)或金屬材料層達(dá)到一定厚度后就需要定期清洗，否則材料層或脫落或堵塞掩膜版空隙，影響制程。

通常將掩膜版置于掩膜版清洗機(jī)中進(jìn)行清洗，將掩膜版置于裝有相關(guān)液體的槽體中，槽體中的液體的不規(guī)則流動，會對精密掩膜版產(chǎn)生沖擊力，導(dǎo)致掩膜版褶皺。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明實(shí)施例提供一種清洗裝置，可以降低掩膜版平面所受法向沖擊力，進(jìn)而避免掩膜版產(chǎn)生褶皺。

本發(fā)明實(shí)施例提供了一種清洗裝置，包括：

清洗槽，清洗槽包括至少一組第一進(jìn)液口組和/或一組第二進(jìn)液口組；

支撐件，位于清洗槽中，用于支撐固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面與清洗槽的槽底垂直；

其中，每組第一進(jìn)液口組包括兩個(gè)第一進(jìn)液口，在掩膜版固定于支撐件上時(shí)，在每組第一進(jìn)液口組中，兩個(gè)第一進(jìn)液口分別位于掩膜版的兩對側(cè)，且兩個(gè)第一進(jìn)液口間的連線與待清洗面垂直；和/或第二進(jìn)液口組包括至少一個(gè)第二進(jìn)液口，在掩膜版固定于支撐件上時(shí)，各第二進(jìn)液口與其相對的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影相交疊。

進(jìn)一步地，兩個(gè)第一進(jìn)液口的孔徑相同。

進(jìn)一步地，兩個(gè)第一進(jìn)液口關(guān)于掩膜版對稱分布。

進(jìn)一步地，各第二進(jìn)液口位于與其相對的掩膜版的外框在清洗槽上的正投影內(nèi)。

進(jìn)一步地，清洗槽包括相對設(shè)置的兩個(gè)第一槽側(cè)壁和相對設(shè)置的兩個(gè)第二槽側(cè)壁，第一槽側(cè)壁與待清洗面平行；

在一組第一進(jìn)液口組中，兩個(gè)第一進(jìn)液口位于槽底和/或第一槽側(cè)壁上；和/或第二進(jìn)液口位于槽底和/或第二槽側(cè)壁上。

進(jìn)一步地，兩個(gè)第一槽側(cè)壁關(guān)于掩膜版對稱分布。

進(jìn)一步地，沿垂直于槽底的方向，第一槽側(cè)壁與第二槽側(cè)壁的高度相同，或第一槽側(cè)壁的高度低于第二槽側(cè)壁的高度，或第二槽側(cè)壁的高度低于第一槽側(cè)壁的高度。

進(jìn)一步地，清洗裝置還包括溢流槽和動力機(jī)構(gòu)；溢流槽包括至少一個(gè)出液口，溢流槽位于清洗槽的至少一側(cè)，溢流槽用于盛裝清洗槽溢出的清洗液；動力機(jī)構(gòu)包括抽液端和排液端，抽液端與出液口連通，排液端與第一進(jìn)液口和/或第二進(jìn)液口連通，動力機(jī)構(gòu)用于循環(huán)清洗槽內(nèi)的清洗液；

優(yōu)選地，清洗裝置包括分別位于清洗槽的兩對側(cè)的溢流槽；

優(yōu)選地，分別位于清洗槽的兩對側(cè)的溢流槽的出液口的孔徑相同。