[發明專利]一種清洗裝置

有效

• 申請號: 202010182719.7
• 申請日: 2020-03-16
• 公開（公告）號: CN111359971B
• 公開（公告）日: 2021-10-08
• 發明（設計）人: 朱朝月;楊碩;楊斌;張孟湜
• 申請（專利權）人: 昆山國顯光電有限公司
• 主分類號: B08B3/04
• 分類號: B08B3/04;B08B13/00;C23C14/04
• 代理公司: 北京遠智匯知識產權代理有限公司 11659
• 代理人: 范坤坤

1.一種清洗裝置，其特征在于，包括：

清洗槽，所述清洗槽包括至少一組第一進液口組和至少一組第二進液口組；

支撐件，位于所述清洗槽中，用于支撐固定掩膜版且使掩膜版的待清洗面與所述清洗槽的槽底垂直；

其中，每組所述第一進液口組包括兩個第一進液口，在掩膜版固定于所述支撐件上時，在每組所述第一進液口組中，所述兩個第一進液口分別位于所述掩膜版的兩對側，且所述兩個第一進液口間的連線與所述待清洗面垂直，以降低所述掩膜版兩側的清洗液向對側流動產生的法向沖擊力；所述第二進液口組包括至少一個第二進液口，在掩膜版固定于所述支撐件上時，各所述第二進液口與其相對的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影相交疊；所述第二進液口流入的清洗液直接對掩膜版的外框產生沖擊力，經掩膜版的外框抵擋一部分清洗液的沖擊力后，清洗液在外框處再分流向掩膜版的兩側流動，使得清洗液產生的垂直于待清洗面的法向沖擊力減小；

其中，所述清洗槽用于盛裝清洗液，所述清洗液沒過所述掩膜版，所述掩膜版上設置有多個通孔，所述通孔的延伸方向垂直于所述掩膜版的待清洗面，所述掩膜版的外框位于所述掩膜版的側面，所述掩膜版的側面垂直于所述待清洗面。

2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述兩個第一進液口的孔徑相同。

3.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述兩個第一進液口關于所述掩膜版對稱分布。

4.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，各所述第二進液口位于與其相對的所述掩膜版的外框在所述清洗槽上的正投影內。

5.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽包括相對設置的兩個第一槽側壁和相對設置的兩個第二槽側壁，所述第一槽側壁與所述待清洗面平行；

在一組所述第一進液口組中，所述兩個第一進液口位于所述槽底和/或所述第一槽側壁上；和/或所述第二進液口位于所述槽底和/或所述第二槽側壁上。

6.根據權利要求5所述的清洗裝置，其特征在于，所述兩個第一槽側壁關于所述掩膜版對稱分布。

7.根據權利要求5所述的清洗裝置，其特征在于，沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽側壁與所述第二槽側壁的高度相同，或所述第一槽側壁的高度低于所述第二槽側壁的高度，或所述第二槽側壁的高度低于所述第一槽側壁的高度。

8.根據權利要求1至7任一項所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗裝置還包括溢流槽和動力機構；所述溢流槽包括至少一個出液口，所述溢流槽位于所述清洗槽的至少一側，所述溢流槽用于盛裝所述清洗槽溢出的清洗液；所述動力機構包括抽液端和排液端，所述抽液端與所述出液口連通，所述排液端與所述第一進液口和/或所述第二進液口連通，所述動力機構用于循環所述清洗槽內的清洗液；

所述清洗裝置包括分別位于所述清洗槽的兩對側的所述溢流槽；

分別位于所述清洗槽的兩對側的所述溢流槽的出液口的孔徑相同。

9.根據權利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽包括相對設置的兩個第一槽側壁和相對設置的兩個第二槽側壁，所述第一槽側壁與所述待清洗面平行；

兩個所述溢流槽分別與所述兩個第一槽側壁相鄰，在一組所述第一進液口組中，所述兩個第一進液口位于所述槽底；和/或所述第二進液口位于所述槽底和/或所述第二槽側壁上；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第一槽側壁的高度低于所述第二槽側壁的高度。

10.根據權利要求8所述的清洗裝置，其特征在于，所述清洗槽包括相對設置的兩個第一槽側壁和相對設置的兩個第二槽側壁，所述第一槽側壁與所述待清洗面平行；

兩個所述溢流槽分別與所述兩個第二槽側壁相鄰，在一組所述第一進液口組中，所述兩個第一進液口位于所述槽底或所述第一槽側壁上；和/或所述第二進液口位于所述槽底；

沿垂直于所述槽底的方向，所述第二槽側壁的高度低于所述第一槽側壁的高度。