[發明專利]一種低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體、制備方法及SiHfBCN陶瓷在審
| 申請號: | 202010176342.4 | 申請日: | 2020-03-13 |
| 公開(公告)號: | CN111393579A | 公開(公告)日: | 2020-07-10 |
| 發明(設計)人: | 馮志海;許藝芬;胡繼東;俸翔;田躍龍;李媛 | 申請(專利權)人: | 航天材料及工藝研究所;中國運載火箭技術研究院 |
| 主分類號: | C08F283/00 | 分類號: | C08F283/00;C08F230/04;C04B35/58 |
| 代理公司: | 中國航天科技專利中心 11009 | 代理人: | 范曉毅 |
| 地址: | 100076 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 低氧 液態 sihfbcn 陶瓷 前驅 制備 方法 | ||
1.一種低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體,其特征在于:所述前驅體的結構式如下:
其中:R1、R2、R3、R4、R5為H、甲基、乙烯基、苯基、炔丙基或烯丙基;x、y、z,m,n均為正整數,且x≥1,y≥1,z≥1,m≥1,n≥1。
2.權利要求1所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:包括如下步驟:
步驟(1)、采用惰性氣體置換反應容器中的空氣后加入有機溶劑,在20~30℃下將含不飽和基團的液態SiBCN前驅體以及含不飽和基團的鉿前驅體投入到反應容器中,并加入自由基引發劑,充分攪拌均勻后得到均相溶液;
步驟(2)、對所述均相溶液進行加熱,引發體系發生不飽和基團間的自由基聚合反應,得到SiHfBCN前驅體,反應溫度為60~180℃,反應時間為0.5~2h;
步驟(3)、反應完后將體系溫度降低至30℃以下進行減壓蒸餾,除去體系中的溶劑,得到液態SiHfBCN前驅體。
3.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述含不飽和基團的液態SiBCN前驅體的粘度≤200cp。
4.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述含不飽和基團的鉿前驅體的結構式如下:
其中:R1,R2,R3,R4為茂基、乙烯基、苯基、炔丙基或烯丙基,且R1,R2,R3,R4中至少有一種基團為乙烯基或烯丙基。
5.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中加入的SiBCN前驅體和鉿前驅體的質量比為1:2~5:1。
6.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述自由基引發劑為過氧化物類或偶氮類引發劑,所述自由基引發劑的加入量為SiBCN前驅體和鉿前驅體質量總和的0.5%~5%。
7.根據權利要求6所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述過氧化物類引發劑為過氧化二異丙苯、過氧化二苯甲酰或過氧化二碳酸二環己酯;所述偶氮類引發劑為偶氮二異丁腈或偶氮二異庚腈。
8.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述有機溶劑為四氫呋喃、N,N-二甲基甲酰胺或二甲基亞砜;所述有機溶劑的加入量為SiBCN前驅體和鉿前驅體質量總和的1~5倍。
9.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述步驟(1)中采用惰性氣體置換反應容器中的空氣的具體方法為:先對反應容器抽真空后充入惰性氣體,重復3~5次。
10.根據權利要求2所述的低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體的制備方法,其特征在于:所述步驟(3)中減壓蒸餾的蒸餾溫度為50~100℃,真空度為-0.09~-0.1Mpa;所述反應容器為Schlenk反應器。
11.一種低氧液態SiHfBCN陶瓷前驅體,其特征在于:采用權利要求2~10之一所述的制備方法制備得到。
12.一種SiHfBCN陶瓷,其特征在于:采用權利要求1或11所述的SiHfBCN陶瓷前驅體在惰性氣氛下進行800~1500℃裂解處理,得到SiHfBCN陶瓷。
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